检测等离子体工艺异常的频率监控

摘要

本发明公开了一种检测等离子体工艺异常的频率监控装置和方法，其通过检测变频RF电源的频率是否超出所建立的上限和下限而检测RF驱动的等离子体工艺腔室内的异常情况。在第一方面，在新的工艺步骤开始之后或者在采样控制信号改变状态之后，建立第一对上限和下限为采样的电源频率的函数。在第二方面，第二对上限和下限不与所述电源的频率相适应。优选地，将两方面一起使用，以检测异常情况的不同出现。

主权项

一种用于在变频RF电源向等离子体腔室内的异常RF阻抗提供RF功率时发出信号的装置，包括：采样保持电路，具有输出端、采样输入端以及控制输入端，其中，所述采样输入端适于接收表示由RF电源提供的RF功率的频率的频率控制信号，其中所述控制输入端适于接收具有至少第一状态和第二状态的采样控制信号，并且其中当采样控制信号从第一状态改变至第二状态时，所述采样保持电路在其输出端保持最近时间的频率控制信号的值；以及第一比较器电路，适于接收频率控制信号，其中所述第一比较器电路重复地将由频率控制信号表示的频率与第一频率下限和第一频率上限进行比较，并且当由频率控制信号表示的频率小于第一频率下限或者大于第一频率上限时产生第一警报信号；其中连接所述第一比较器电路以接收所述采样保持电路的输出；以及其中所述第一比较器电路响应于所述采样保持电路的输出而建立第一频率下限和第一频率上限，从而该第一频率下限和第一频率上限分别小于和大于由所述采样保持电路的输出表示的频率。