发明名称 制造用于纳米压印图案化磁记录盘的母模的方法
摘要 本发明涉及制造母模的方法,该母模用于纳米压印图案化介质磁记录盘。该方法使用常规光学或电子束光刻在衬底上形成基本径向的条的图案,所述条分组为环形区或带。嵌段聚合物材料沉积在所述图案上,导致嵌段聚合物被导引从而自组装成其组分,以使所述基本径向的条倍增为交替的嵌段聚合物组分的基本径向的线。一种组分的径向线被去除且留下的组分的径向线用作蚀刻掩模来蚀刻衬底。在蚀刻及去除抗蚀剂之后,母模具有布置成圆环的柱,圆环分组成环形带。
申请公布号 CN101609691B 申请公布日期 2011.05.11
申请号 CN200910145885.3 申请日期 2009.06.17
申请人 日立环球储存科技荷兰有限公司 发明人 托马斯·R·阿尔布雷克特;里卡多·鲁伊斯
分类号 G11B5/84(2006.01)I;G11B5/86(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G11B5/84(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 冯玉清
主权项 一种用于制造母模的方法,所述母模用于压印磁记录盘,该方法包括使用具有体周期L0的嵌段共聚物,且该方法包括:在具有中心的衬底上形成布置成环形带的径向的条的图案,所述条具有nL0的圆周向间距,其中n是等于或大于2的整数;及在图案化的所述衬底上沉积包括具有体周期L0的嵌段共聚物材料层,由此所述共聚物材料被所述条引导从而自组装成交替的第一和第二共聚物组分的径向的线,每种组分的所述径向的线具有L0的圆周向间距;去除所述第一共聚物组分的所述径向的线,留下所述第二共聚物组分的所述径向的线;在所述第二共聚物组分的所述径向的线之上形成同心环的抗蚀剂图案;蚀刻所述第二共聚物组分的所述径向的线的被所述抗蚀剂保护的部分;去除所述抗蚀剂,留下所述第二共聚物组分的柱的图案;利用所述第二共聚物组分的所述柱作为蚀刻掩模,蚀刻所述衬底;及去除所述第二共聚物组分的所述柱,留下具有衬底材料构成的柱的图案的衬底。
地址 荷兰阿姆斯特丹