| 发明名称 | 一种用于对抛光垫进行修整的修整装置 | ||
| 摘要 | 本专利涉及抛光设备技术领域，尤其是一种在化学机械抛光过程中用于对抛光垫抛光表面进行修整的修整装置。最终执行件由自转电机通过同步带驱动旋转，摆动电机驱动可摆动悬臂带动最终执行件在抛光表面径向往复摆动；万向节置于可旋转部件和最终执行件之间，传递扭矩和下压力的同时实现修整盘的自适应，保证修整盘平行于抛光垫；通过调节气缸压力实现修整器上下微动以适应抛光垫旋转时的跳动并保持一定范围内的下压力，不修整时抬起修整盘离开抛光垫。本专利所述抛光垫修整器结构紧凑、平稳度高且可靠性强，可广泛应用于精密抛光设备。 | ||
| 申请公布号 | CN101623849B | 申请公布日期 | 2011.05.11 |
| 申请号 | CN200910089150.3 | 申请日期 | 2009.07.31 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 路新春;彭静;赵德文 |
| 分类号 | B24B53/14(2006.01)I;B24B37/04(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | B24B53/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人 | 张文宝 |
| 主权项 | 一种用于对抛光垫进行修整的修整装置，其特征在于，自转电机(8)输出端与第二同步带轮(6)连接，并通过同步带(7)带动第一同步带轮(5)转动，第一同步带轮(5)中心处依次安装可旋转部件(3)、万向节(2)以及最终执行件(1)，最终执行件(1)由自转电机(8)通过同步带(7)驱动旋转，万向节(2)传递扭矩和下压力的同时实现修整盘(14)的自适应，保证修整盘(14)平行于抛光垫；在自转电机(8)下方设置摆动电机(9)，将自转电机(8)外壳与可摆动悬臂(4)在摆动支点处固连，摆动电机(9)驱动可摆动悬臂(4)带动最终执行件(1)在抛光垫表面径向做往复摆动；调节气缸(11)通过滚动导轨(10)与修整装置连接，调节气缸(11)调节压力实现修整时修整盘(14)上下微动以适应抛光垫旋转时的跳动并保持一定范围内的下压力，不修整时抬起修整盘(14)离开抛光垫。 | ||
| 地址 | 100084 北京市100084-82信箱 | ||