决定方法

摘要

本发明公开了一种决定方法，决定在曝光装置中使用的掩模的图案和对掩模进行照明时的有效光源分布，其中，该曝光装置具有：利用来自光源的光对掩模进行照明的照明光学系统；和将所述掩模的图案投影到基板上的投影光学系统。

主权项

一种决定在曝光装置中使用的掩模的图案和对掩模进行照明时的有效光源分布的决定方法，其中，该曝光装置具有：利用来自光源的光对掩模进行照明的照明光学系统；和将所述掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，该决定方法的特征在于包括：第1设定步骤，设定用于规定与要形成在所述基板上的图案对应的临时图案的形状的第1参数；第2设定步骤，设定用于评价形成在所述投影光学系统的像面上的临时图案的像的、所述临时图案的像中的评价位置和所述评价位置上的评价项目；第3设定步骤，设定用于规定临时有效光源分布的第2参数；临时决定步骤，临时决定所述第1参数的值和所述第2参数的值；第1取得步骤，取得利用由在所述临时决定步骤中临时决定的所述第2参数的值所规定的临时有效光源分布对由在所述临时决定步骤中临时决定的所述第1参数的值所规定的临时图案进行照明时在所述投影光学系统的像面上形成的临时图案的像；第2取得步骤，针对在所述第1取得步骤中取得的临时图案的像，取得在所述第2设定步骤中设定的所述评价位置上的评价项目的值；以及判定步骤，判定在所述第2取得步骤中取得的所述评价位置上的评价项目的值是否满足评价基准，其中，在所述判定步骤中判定所述评价位置上的评价项目的值满足所述评价基准的情况下，将由在所述临时决定步骤中临时决定的所述第1参数的值所规定的临时图案和由在所述临时决定步骤中临时决定的所述第2参数的值所规定的临时有效光源分布分别决定为掩模图案和有效光源分布；在所述判定步骤中判定所述评价位置上的评价项目的值不满足所述评价基准的情况下，变更并再次临时决定所述第1参数的值和所述第2参数的值，重复进行所述第1取得步骤、所述第2取得步骤和所述判定步骤。