多色耐磨金属装饰膜层的制作方法

摘要

本发明公开了一种多色耐磨金属装饰膜层的制作方法，包括以下步骤：一、第一次表面局部遗留膜层选定或制作；二、隔膜层制作及膜层局部破坏处理；三、第二次表面局部遗留膜层制作；四、局部膜层剥离，并获得双色膜层；五、三色以上的多色膜层制作：先判断需制作多色膜层的颜色数量n；其次，以步骤四中所获得的双色膜层为第一次表面局部遗留膜层，重复步骤二至步骤四n-2次后，则相应获得颜色数量为n的多色膜层。本发明设计合理、加工制作方便、加工制程环保且所制作的多色膜层具有高耐磨性、颜色多元化与耐高温的环保性等优良特性，能有效解决现有多色膜层加工制程所存在的颜色单一、加工过程复杂、适用面窄、不环保等多种实际问题。

主权项

一种多色耐磨金属装饰膜层的制作方法，其特征在于该方法包括以下步骤：步骤一、第一次表面局部遗留膜层选定或制作：首先，在被加工基材上选择一个外侧面作为处理面；之后，以所述处理面作为第一次表面局部遗留膜层，或者通过常规PVD真空镀膜方法或电镀法在所述处理面上镀一金属膜层一作为第一次表面局部遗留膜层，所述金属膜层一为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层；步骤二、隔膜层制作及膜层局部破坏处理，其过程如下：201、隔膜层制作：首先，对第一次表面局部遗留膜层的材质进行判断：当第一次表面局部遗留膜层为半导体膜层或碳化合物膜层时，采用机加工工具、化学腐蚀方法或电解腐蚀刻蚀方法对所述第一次表面局部遗留膜层进行局部破坏，相应获得第一次表面局部遗留膜层经局部破坏处理后的局部破坏处理面一；反之，采用电镀、PVD真空镀膜、电泳、喷涂或粉刷方法采用PVD真空镀膜方法在所述第一次表面局部遗留膜层上镀一层或多层金属膜层二、非金属膜层或半导体膜层作为作为隔膜层；所述金属膜层二为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层，且所述金属膜层二与步骤一中所述金属膜层一的材质不同；202、膜层局部破坏处理：采用机加工工具、化学腐蚀方法或电解腐蚀刻蚀方法对所述隔膜层单独进行局部破坏、穿过所述隔膜层由上至下对所述隔膜层和第一次表面局部遗留膜层同时进行局部破坏或者穿过所述隔膜层和所述第一次表面局部遗留膜层由上至下对所述隔膜层、第一次表面局部遗留膜层和被加工基材的处理面同时进行局部破坏，相应获得经膜层局部破坏处理后的局部破坏处理面二；步骤三、第二次表面局部遗留膜层制作：采用PVD真空镀膜方法在步骤201中所述的局部破坏处理面一或步骤202中所述的局部破坏处理面二上镀一金属膜层三作为第二次表面局部遗留膜层，并相应获得二次镀膜处理面一或二次镀膜处理面二；所述金属膜层二为单质金属膜层、合金膜层或金属化合物膜层，且所述金属膜层三的材质与所述金属膜层二的材质不同；步骤四、局部膜层剥离：当对所述二次镀膜处理面一进行局部膜层剥离时，由于步骤三中采用PVD真空镀膜方法在所述局部破坏处理面一上镀第二次表面局部遗留膜层过程中，所镀的第二次表面局部遗留膜层不能附着于未被破坏的第一次表面局部遗留膜层上，则可将步骤三中镀在未被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜层直接剥离，而将镀在已被破坏的第一次表面局部遗留膜层上的第二次表面局部遗留膜层保留下来，并完成双色膜层的制作过程；当对所述二次镀膜处理面二进行局部膜层剥离时，采用化学腐蚀或电解腐蚀方法对隔膜层进行剥离的同时并将镀在未被破坏的隔膜层上的第二次表面局部遗留膜层剥离，而将镀在已被破坏的所述隔膜层上的第二次表面局部遗留膜层保留下来，并完成双色膜层的制作过程；步骤五、三色以上的多色膜层制作：当需制作三色以上的多色膜层时，首先判断需制作多色膜层的颜色数量n且n≥3；其次，以步骤四中所获得的双色膜层为第一次表面局部遗留膜层，重复步骤二至步骤四n‑2次后，则相应获得颜色数量为n的多色膜层；其中，n‑2次步骤二至步骤四的重复过程相应形成n‑2次膜层表面处理过程，且每一次膜层表面处理过程中，均以上一次膜层表面处理过程所获得的多层膜层作为本次膜层表面处理过程的第一次表面局部遗留膜层。