| 发明名称 | 用于半导体晶片处理的光腔炉 | ||
| 摘要 | 一种光腔炉(10)，其具有与炉的光腔(18)相关联的多个光能量源(12)。所述多个光能量源(12)可以是灯或适用于产生适当级光能的其他装置。光腔炉(10)也可包括与光能量源(12)相关联的一个或多个反射器(14)和一个或多个壁(16)，以使得反射器(14)和壁(16)限定光腔(18)。壁(16)可具有任何期望构造或形状，以增强炉作为光腔(18)的操作。光能量源(12)可相对于限定光腔的反射器(14)和壁设置在任何位置。光腔炉(10)可进一步包括用于输送一个或多个半导体晶片(20)通过光腔的半导体晶片输送系统(22)。 | ||
| 申请公布号 | CN102027581A | 申请公布日期 | 2011.04.20 |
| 申请号 | CN200980108644.X | 申请日期 | 2009.03.12 |
| 申请人 | 可持续能源联盟有限责任公司 | 发明人 | B·L·索波里 |
| 分类号 | H01L21/324(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/324(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王永建 |
| 主权项 | 一种光腔炉，其包括：多个光能量源；与所述光能量源相关联的一个或多个反射器；与所述光能量源相关联的一个或多个壁，其中所述壁和反射器限定光腔，且所述光能量源与所述光腔相关联；以及半导体晶片输送系统，其用于输送半导体晶片通过所述光腔。 | ||
| 地址 | 美国科罗拉多 | ||