薄膜沉积设备

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积设备，包括真空箱体和位于所述箱体内部的工件架，所述工件架包括复数个等距间隔交替放置的激励电极板和接地电极板，所述工件架的电极板的两端分别具有布气盒，反应气体分别从所述两端的布气盒进入激励电极板和接地电极板之间的反应空间。本发明的薄膜沉积设备能够显著提高大型PECVD设备所沉积的合金薄膜的均匀性。

主权项

一种薄膜沉积设备，包括真空箱体和位于所述箱体内部的工件架，所述工件架包括复数个等距间隔交替放置的激励电极板和接地电极板，其特征在于：所述工件架的电极板的两端分别具有布气盒，反应气体分别从所述两端的布气盒进入激励电极板和接地电极板之间的反应空间。