发明名称 磁记录盘、用于纳米压印其的母模和制造母模的方法
摘要 本发明提供一种磁记录盘、用于纳米压印该磁记录的母模和制造该母模的方法。该方法包括:在具有中心的衬底上形成具有平行侧壁的多个径向指向的脊;在所述脊的侧壁上沉积材料;去除所述脊,从而留下所述侧壁材料的成对的平行条;在所述成对的平行条上形成抗蚀剂的同心环图案;蚀刻所述成对的平行条的未被所述抗蚀剂保护的部分;去除所述抗蚀剂,留下以同心环图案布置的圆周向间隔开的侧壁材料的柱;使用所述侧壁材料的柱作为蚀刻掩模,蚀刻所述衬底;以及去除所述侧壁材料的柱,留下具有以同心环图案布置的圆周向间隔开的衬底材料的柱的衬底,其中所述衬底材料的柱的同心环的径向间距与所述衬底材料的柱的圆周向间距的比大于1。
申请公布号 CN101609692B 申请公布日期 2011.04.20
申请号 CN200910141071.2 申请日期 2009.05.18
申请人 日立环球储存科技荷兰有限公司 发明人 托马斯·R·阿尔布雷克特;巴里·C·斯蒂普;杨宏渊
分类号 G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/00(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 张波
主权项 一种制造母模的方法,所述母模用于压印磁记录盘,该方法包括:在具有中心的衬底上形成具有平行侧壁的多个径向指向的脊;在所述脊的所述侧壁上沉积材料;去除所述脊,从而留下所述侧壁材料的成对的平行条;在所述成对的平行条上形成抗蚀剂的同心环图案;蚀刻所述成对的平行条的未被所述抗蚀剂保护的部分;去除所述抗蚀剂,留下以同心环图案布置的圆周向间隔开的侧壁材料的柱;使用所述侧壁材料的柱作为蚀刻掩模,蚀刻所述衬底;以及去除所述侧壁材料的柱,留下具有以同心环图案布置的圆周向间隔开的衬底材料的柱的衬底,其中所述衬底材料的柱的同心环的径向间距与所述衬底材料的柱的圆周向间距的比大于1。
地址 荷兰阿姆斯特丹