| 发明名称 | 遮光部件及其制法、使用了该遮光部件的膜及光掩模 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种遮光部件及其制法、使用了该遮光部件的膜及光掩模，其中所述遮光部件具有与基材具有优异的粘附性的含有金属颗粒的膜，并且该遮光部件对各种波长均具有优异的遮光性。所述遮光部件的制作方法的特征在于，具有以下工序：(a)形成聚合物层的工序，其中在可通过曝光产生自由基的基材上，使具有可发生自由基聚合的不饱和部位及可吸附金属离子或金属盐的部位的化合物与该基材接触后，进行曝光，生成直接结合在上述基材上的聚合物，由此形成聚合物层；(b)向该聚合物层中加入金属离子或金属盐的工序；以及，(c)将该金属离子或金属盐中的金属离子还原，析出体积平均粒径为大于或等于5nm而小于或等于500nm的金属颗粒的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN101338416B | 申请公布日期 | 2011.04.20 |
| 申请号 | CN200810126854.9 | 申请日期 | 2008.07.01 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 松下泰明 |
| 分类号 | C23C18/16(2006.01)I;C23C18/31(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 丁业平;张天舒 |
| 主权项 | 一种遮光部件的制作方法，具有以下工序：(a)形成聚合物层的工序，其中在可通过曝光产生自由基的基材上，使具有可发生自由基聚合的不饱和部位及可吸附金属离子或金属盐的部位的化合物与该基材接触后，进行曝光，生成直接结合在上述基材上的聚合物，由此形成聚合物层；(b)向该聚合物层中加入金属离子或金属盐的工序；以及，(c)将该金属离子或金属盐中的金属离子还原，析出体积平均粒径为大于或等于5nm而小于或等于500nm的金属颗粒的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||