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一种无患子(i>Sapindus/i>i>mukorossi/i>)去头皮屑活性物质，系将无患子果实之假种皮经乾燥后，经乙酸乙酯溶剂萃取所产生者。如申请专利范围第1项所述之无患子去头皮屑活性物质，其中该无患子果实系为自无患子树上采集之新鲜青果。一种如申请专利范围第1项所述之无患子去头皮屑活性物质之制备方法，包括下列步骤：步骤1：将新鲜之无患子青果进行乾燥处理；步骤2：破碎乾燥之无患子青果，并分离其种子及假种皮；步骤3：以乙酸乙酯溶剂萃取该假种皮后，分离萃取液及固体物；以及步骤4：去除该萃取液所含之乙酸乙酯溶剂，得到之萃取物即为无患子去头皮屑活性物质。如申请专利范围第3项所述之制备方法，其中该步骤1之乾燥处理系于45至55℃下进行2至4天。如申请专利范围第3项所述之制备方法，其中该步骤2之假种皮可进一步进行粉碎以制成粉末。如申请专利范围第5项所述之制备方法，其中该粉末可以真空包装储存于常温乾燥环境下。如申请专利范围第3项所述之制备方法，其中该步骤3之假种皮与乙酸乙酯溶剂之比例为1/5至1/20(重量体积比)。如申请专利范围第3项所述之制备方法，其中该步骤4系以减压浓缩法去除乙酸乙酯溶剂。如申请专利范围第3项所述之制备方法，其中该步骤4之无患子去头皮屑活性物质可进一步进行冷冻乾燥并粉碎制成粉末。如申请专利范围第9项所述之制备方法，其中该粉末可以密封储存于低温环境下。一种组成物，系包含如申请专利范围第1项所述之无患子去头皮屑活性物质、洗发乳基乳成分，以及其他洗发乳可允许添加之微量成分。如申请专利范围第11项所述之组成物，其中该无患子去头皮屑活性物质之含量为0.05至1.0%(w/v)。如申请专利范围第11项所述之组成物，其中该洗发乳基乳成分包含椰油硫酸钠(Sodium coceth sulfate)、甘油(Glycerol)、烷基醯胺甜菜硷(Cocamidopropyl betaine)、十二烷基硫酸铵(Ammonium lauryl sulfate)、玻尿酸钠(Sodium hyaluronate)、泛醇(D-Panthenol)、柠檬酸钠(Sodium citrate)、瓜尔羟丙基氯化铵(Guar hydroxypropyltrimonium chloride)、乙二醇二硬脂酸酯(Ethyleneglycol disterate)，以及二甲基矽酮(Dimethicone)。如申请专利范围第11项所述之组成物，其中该稀释剂为水或甘油或多元醇类。如申请专利范围第11项所述之组成物，其中该其他洗发乳可允许添加之微量成分为精油及色素等。如申请专利范围第15项所述之组成物，其中该精油为各式芳香成分，包括植物精油或微生物代谢物或合成香精等。如申请专利范围第15项所述之组成物，其中该色素包括色素及色料。如申请专利范围第11项所述之组成物，其中该组成物系用来清洁头发及去除头皮屑。 |
