发明名称 |
氮化物系半导体元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种氮化物系半导体元件及其制造方法。其中,氮化物系半导体发光元件(100),具备:以m面(12)为表面的GaN基板(10)、在GaN基板(10)的m面(12)之上形成的半导体叠层结构(20)、和在半导体叠层结构(20)之上形成的电极(30)。电极(30)包括Zn层(32)和形成在Zn层(32)之上的金属层(34),Zn层(32)与半导体叠层结构(20)中的p型半导体区域的表面相接触。 |
申请公布号 |
CN102007611A |
申请公布日期 |
2011.04.06 |
申请号 |
CN201080001393.8 |
申请日期 |
2010.03.16 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
大屋满明;横川俊哉;山田笃志;矶崎瑛宏 |
分类号 |
H01L33/40(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L33/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/40(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
一种氮化物系半导体元件,具备:氮化物半导体叠层结构,其具有表面为m面的p型半导体区域;以及电极,其形成在所述p型半导体区域的所述表面上;所述p型半导体区域由AlxInyGazN半导体形成,其中x+y+z=1,x≥0,y≥0,z≥0;所述电极包括与所述p型半导体区域的所述表面相接触的Zn层。 |
地址 |
日本大阪府 |