| 发明名称 | 高产量化学机械抛光系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于抛光基片的系统和方法的实施例。在一个实施例中，提供包括抛光模块、清洁器和机器人的抛光系统。所述机器人具有足以在所述抛光模块与所述清洁器之间转移基片的运动范围。所述抛光模块包括至少两个抛光台、至少一个装载杯和至少四个抛光头。所述抛光头被配置以在所述至少两个抛光台与所述至少一个装载杯之间独立地移动。 | ||
| 申请公布号 | CN101990703A | 申请公布日期 | 2011.03.23 |
| 申请号 | CN200980112926.7 | 申请日期 | 2009.04.20 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | A·L·德阿姆巴拉;A·伊尔玛兹 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陆嘉 |
| 主权项 | 一种抛光系统，其包含：抛光模块；清洁器；和机器人，其具有足以在所述抛光模块与清洁器之间转移基片的运动范围，所述抛光模块包含：至少两个抛光台；至少一个装载杯；和至少四个抛光头，其被配置以在所述至少两个抛光台与所述至少一个装载杯之间独立地移动。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||