发明名称 PROCESS FOR MANUFACTURING A STRUCTURE COMPRISING A GERMANIUM LAYER ON A SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP2294611(A1) 申请公布日期 2011.03.16
申请号 EP20090772296 申请日期 2009.06.12
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 DAVAL, NICOLAS;KONONCHUK, OLEG;GUIOT, ERIC;AULNETTE, CECILE;LALLEMENT, FABRICE;FIGUET, CHRISTOPHE;LANDRU, DIDIER
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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