含噁唑衍生物的射线敏感组合物和基于它的可成象元件

摘要

一种射线敏感元件，它包含(a)一种或多种单体，各自包含至少一种可参与自由基聚合的烯属不饱和基团，(b)至少一种增感剂，(c)至少一种能与增感剂(b)一起形成自由基的助引发剂，选自下列化合物类别：金属茂；具有1～3个CX₃基团的1，3，5-三嗪衍生物，其中X代表氯或溴；过氧化物；六芳基双咪唑；肟醚；肟酯；N-芳基甘氨酸及其衍生物；硫醇化合物；N-芳基、S-芳基和O-芳基多羧酸，具有至少两个羧基基团，其中至少一个键合在芳基单元的N、S或O原子上；烷基三芳基硼酸酯；苯偶姻醚；苯偶姻酯；三卤代甲基-芳基砜；胺；N，N-二烷基氨基苯甲酸酯；芳基磺酰卤；三卤代甲基砜；酰亚胺；重氮磺酸盐；9，10-二氢蒽衍生物；α-羟基和α-氨基乙酰苯；和(d)任选地一种或多种组分，选自碱溶性粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、隐色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂，特征在于，至少一种增感剂是通式(I)的噁唑衍生物，其中每个R¹、R²和R³独立地选自卤素原子、任选取代的烷基基团、任选取代的芳基基团，后者也可以稠合，任选取代的芳烷基基团、基团-NR⁴R⁵和基团-OR⁶，其中R⁴和R⁵独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基基团，R⁶是烷基、芳基或芳烷基基团或氢原子，且k、m和n独立地是0或1～5的整数。

主权项

1.一种射线敏感组合物，以由该射线敏感组合物制备的射线敏感涂层的干层重为基准，所述射线敏感组合物包含(a)5～95wt％的一种或多种单体和/或聚合物，各自包含至少一种能参与自由基聚合的烯属不饱和基团，(b)0.2～25wt％的至少一种增感剂，(c)0.2～25wt％的至少一种能与增感剂(b)一起形成自由基的助引发剂，选自下列化合物类别：金属茂；具有1～3个CX₃基团的1，3，5-三嗪衍生物，其中X代表氯或溴；过氧化物；六芳基双咪唑；肟醚；肟酯；N-芳基甘氨酸及其衍生物；硫醇化合物；N-芳基、S-芳基和O-芳基多羧酸，其具有至少两个羧基基团，其中至少一个键合在芳基单元的N、S或O原子上；烷基三芳基硼酸酯；苯偶姻醚；苯偶姻酯；三卤代甲基-芳基砜；胺；N，N-二烷基氨基苯甲酸酯；芳基磺酰卤；三卤代甲基砜；酰亚胺；重氮磺酸盐；9，10-二氢蒽衍生物；α-羟基和α-氨基乙酰苯；和(d)任选地一种或多种组分，选自碱溶性粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、隐色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂，特征在于，至少一种增感剂是通式(I)的噁唑衍生物其中每个R¹、R²和R³独立地选自卤素原子、任选取代的烷基基团、任选取代的芳基基团，任选取代的芳烷基基团、基团-NR⁴R⁵和基团-OR⁶，并且基团R¹、R²和R³至少之一代表基团-NR⁴R⁵，其中R⁴和R⁵独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基基团，R⁶是烷基、芳基或芳烷基基团或氢原子，且k、m和n独立地是0或1～5的整数。