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Katadioptrisches Projektionsobjektiv (1) für die Mikrolithographie zur Abbildung eines Objektfeldes (3) in einer Objektebene (5) auf ein Bildfeld (7) in einer Bildebene (9) mit einem ersten Teilobjektiv (11) zum Abbilden des Objektfeldes auf ein erstes reelles Zwischenbild (13), mit einem zweiten Teilobjektiv (15) zum Abbilden des ersten Zwischenbildes auf ein zweites reeles Zwischenbild (17), und mit einem dritten Teilobjektiv (19) zum Abbilden des zweiten Zwischenbildes auf das Bildfeld. Das zweite Teilobjektiv ist ein katadioptrisches Objektiv mit genau einem Konkavspiegel und mit mindestens einer Linse (L21, L22). Es sind ein erster Faltspiegel (23) zum Ablenken der von der Objektebene kommenden Strahlung in der Richtung des Konkavspiegels und ein zweiter Faltspiegel (25) zum Ablenken er Richtung der Bildebene vorgesehen. Dabei weist mindestens eine Fläche einer Linse (L21, L22) des zweiten Teilobjektivs eine Antireflex-Beschichtung auf, welche für eine Arbeitswellenlänge zwischen 150 nm und 250 nm und für einen Inzidenzwinkelbereich zwischen 0° und 30° eine Reflektivität kleiner als 0,2% aufweist. Alternativ oder zusätzlich sind alle Flächen der Linsen des zweiten Teilobjektivs derart ausgestaltet, dass die Abweichung von der Randstrahl-Konzentrizität größer als oder gleich 20° ist. |
