| 发明名称 | 用于制造电解铜箔的电解液 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于制造实现粗糙面的低起伏化的同时，可以提高伸长特性的电解铜箔的铜电解液。本发明提供作为用于制造用电解铜箔的电解液的硫酸酸性硫酸铜水溶液，其含有来自溴、溴的无机酸、溴的无机盐或它们的混合物的溴化物离子，胶和氯化物离子。 | ||
| 申请公布号 | CN101978100A | 申请公布日期 | 2011.02.16 |
| 申请号 | CN200980109438.0 | 申请日期 | 2009.03.10 |
| 申请人 | JX日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 花房干夫 |
| 分类号 | C25D3/38(2006.01)I;C25D1/00(2006.01)I;C25D1/04(2006.01)I | 主分类号 | C25D3/38(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 熊玉兰;高旭轶 |
| 主权项 | 作为用于制造电解铜箔的电解液的硫酸酸性硫酸铜水溶液，其含有溴化物离子、胶和氯化物离子。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||