| 主权项 |
1.一种式(I)化合物式中A系基(Ⅱa)-(Ⅱc)之一式中R4系氢或甲基;X3系-O-或>N-R12,其中R12系氢或C1-4烷基,p系1或2,若p系1,则R5系C2-10烷二基,若p系2,则R5系C2-14烷三基;R6如上述之R12所定义,R7系C2-4烷二基,R8系氢,R9系C1-12烷二基,R1系C1-3烷基、C1-3烷氧基或OH,R2系氢且R3系C1-3烷基,m+n系1至50之数,n为m+n和之0至75%,X1如R1所定义且X2系C1-3烷基,在式(I)中重覆结构单元中R1.R2.R3及A可为相同或不同之定义,且若式(I)化合物系共聚性,则各结构第元可呈无规分布或嵌段分布者。2.如申请专利范围第1项之式(I)化合物,其中A为下式基其中R4系氢或甲基,X3系-O-或-NH-,且R5系乙撑、丙撑或十甲撑。3.如申请专利范围第1项之式(I)化合物,其中A为下式基其中R4系氢或甲基,X3系-O-或-NH-,R5〞系-CH2-CH<或>CH-(CH2)3-。4.如申请专利范围第1项之式(I)化合物,其中A为下式基其中R4系氢或甲基,R6系氢或C1-4烷基。5.如申请专利范围第1项之式(I)化合物,其系6.如申请专利范围第1项之式(I)化合物,其中重覆结构单元等于7.一种组成物,其包含容易因光、热及氧化而降解之有机物质及相对于该有机物质0.01至5重量%的如申请专利范围第1项之式(I)化合物。8.如申请专利范围第7项之组成物,其中有机物质为合成聚合物。9.如申请专利范围第7项之组成物,其中有机物质为聚烯烃。10.如申请专利范围第7项之组成物,其中有机物质为聚乙烯或聚丙烯。11.一种安定有机物质对抗因受光、热及氧化而降解之方法,其包括在有机物质中掺入相对于该有机物质0.01至5 |
