| 主权项 |
1.一种藉压力介质运转之往复冲击机构(I),其具有至少一工作构件(7),至少一停止构件(15),及一工作腔(22);工作构件系活塞或类似之型态,停止构件与工作构件可在轴向相对运动,工作腔可容纳压力介质而被设置在构件之一上且开向另一构件,构件之一具有一开孔(39)朝向工作腔,可供应压力介质到工作腔,该冲击机构另包括一构件(21)用来当构件(7)及(15)之相对位置在最接近时及到一预定位置时可密封工作腔,构件(7)及(15)之位置的移动系藉压力介质经由开孔(39)进入工作腔(22)及允许压力介质逃离工作腔等来达成,该冲击机构之特征为:其中包括:一构件(36)连接到构件(7,15)中不具开孔(39)之构件上,该构件(36)系跟随构件(7,15)力中不具开孔之构件相对于具开孔之构件的运动,并且藉此来阻隔及释放该开孔。2.依据申请专利范围第1项之机构(I),其中包括:用来将压力介质供应到开孔(39)的导管(34,35),其中,该导管在上游方向于开孔之上游处有部份(40)的截面较大,构件(36)包括一突出部份(37),其可通过开孔(39)及部份(40)之下游边界(43),其具一截面可让压力介质流过导管及开孔(39),构件(36)亦包括第二部份(38),其连接到突出部份之端部且位于导管中,当构件(7,15)分离移动时其可抵达部份(40)之下游边界,以阻隔开口(39),并当构件(7,15)相向移动时其可在上游方向离开下游边界(43),以允许压力介质经由开孔(39)供应到工作腔(22)。3.依据申请专利范围第2项之机构(I),其中:其用来将压力介质,供应到开孔(39)之导管具有一空室(34),将空室之截面大于开孔上游之构件(36)之第二部份(38)。4.依据申请专利范围第3项之机构(I),其中:包括一通道部份(35),具有固定的截面,并与开孔(39),空室(34)相互连接,构件(36)之突出部份(37)之截面小于通道部份(35),而连接其上的第二部份(38)之截面相等于通道部份(35)。5.依据申请专利范围第4项之机构(I),其中:构件(36)之突出部份(37)及第二部份(38)由单一物体所做成,该单一 |
