发明名称 |
光刻机扫描曝光系统及其扫描曝光方法 |
摘要 |
本发明提供一种光刻机扫描曝光系统,包括光源以及沿着光源出射光束形成的光路依次排列的柱面镜、变焦镜组、光学均匀器、耦合光组、掩模板、物镜、工件台,在所述变焦镜组和光学均匀器之间设置有光束旋转镜组,所述光束旋转镜组由若干组光学元件组成。扫描曝光时,先对曝光场区域扫描曝光后,将所述光束旋转镜组移入所述光路中,再次对曝光场区域扫描曝光,完成扫描曝光后移开所述光束旋转镜组,改善了曝光场Y方向的剂量均匀性,又能改善X方向的剂量均匀性,从而改善曝光剂量的系统性能,提高光刻线宽的均匀性。 |
申请公布号 |
CN101482705B |
申请公布日期 |
2011.02.02 |
申请号 |
CN200910046485.7 |
申请日期 |
2009.02.23 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
张俊;罗鸣 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种扫描曝光方法,包括光源以及沿着光源出射光束形成的光路依次排列的柱面镜、变焦镜组、光学均匀器、耦合光组、掩模板、物镜、工件台,在所述变焦镜组和光学均匀器之间设置有光束旋转镜组,其特征在于:光束旋转镜组被移出光路,先对曝光场区域扫描曝光后,将所述光束旋转镜组移入所述光源出射光束形成的光路中,再次对曝光场区域扫描曝光,完成扫描曝光后移开所述光束旋转镜组。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区张东路1525号 |