发明名称 防止晶片倾斜放置的装置
摘要 一种防止晶片倾斜放置的装置,利用讯号发射元件,发出一平行加热装置表面,并略高于晶片厚度的讯号,并以讯号接收元件是否接收到此讯号,做为制程是否继续进行之依据。
申请公布号 TW399772 申请公布日期 2000.07.21
申请号 TW087220778 申请日期 1998.12.14
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 罗国材
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种防止晶片倾斜放置的装置,包括:一晶片;一液相形态之薄膜覆盖该晶片;一讯号发射元件,发出一掠过该液相形态之薄膜表面之讯号,该讯号以一预定高度高于该液相形态之薄膜表面;以及一讯号接收元件,用以接收该讯号,若接收不到该讯号,则该晶片被判定为倾斜放置。2.如申请专利范围第1项所述之防止晶片倾斜放置的装置,其中该液相形态薄膜包括旋涂式玻璃溶液。3.如申请专利范围第1项所述之防止晶片倾斜放置的装置,其中该液相形态薄膜包括一光阻。4.如申请专利范围第1项所述之防止晶片倾斜放置的装置,其中该晶片保放在一加热装置上。5.如申请专利范围第4项所述之防止晶片倾斜放置的装置,其中该加热装置包括一热垫板。6.如申请专利范围第1项所述之防止晶片倾斜放置的装置,其中该讯号发射元件包括一雷射微测器。7.如申请专利范围第1项所述之防止晶片倾斜放置的装置,其中该讯号接收元件包括一雷射接收器。8.如申请专利范围第1项所述之防止晶片倾斜放置的装置,其中该讯号系以平行该液相形态之薄膜表面之方式,掠过该液相形态之薄膜表面。图示简单说明:第一图系绘示晶片正常放置与倾斜放置之上视(TopVive)图;以及第二图系绘示第一图沿Ⅱ-Ⅱ方向之结构剖面图。
地址 新竹科学工业园区新竹巿力行二路三号