| 发明名称 | 热处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种热处理装置，其特征在于，包括：收纳基板的处理室；设置在所述处理室的上方、并且分别照射所述基板的多个光源；内面形成为圆顶状的反射面，反射从所述各个光源发出的光的一部分并导向所述基板的第一反射镜；和分别设置于所述各个光源，反射并汇聚从各个光源发出的光、导向所述基板的多个第二反射镜，为了在配设各光源的位置形成第一焦点，并在配设所述基板的一侧形成第二焦点，各第二反射镜的反射面具有围绕该第一焦点的周围的旋转椭圆面或者与其近似的曲面的一部分。 | ||
| 申请公布号 | CN101091235B | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200680001583.3 | 申请日期 | 2006.06.21 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 河西繁 |
| 分类号 | H01L21/26(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种热处理装置，其特征在于，包括：收纳基板的处理室；设置在所述处理室的上方、并且分别照射所述基板的多个光源；内面形成为圆顶状的反射面，反射从所述各个光源发出的光的一部分并导向所述基板的第一反射镜；和分别设置于所述各个光源，反射并汇聚从各个光源发出的光、导向所述基板的多个第二反射镜，为了在配设各光源的位置形成第一焦点，并在配设所述基板的一侧形成第二焦点，各第二反射镜的反射面具有围绕该第一焦点的周围的旋转椭圆面的一部分。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||