| 摘要 |
본 발명은 포토리소그래피용 마스크의 분석 방법에 관한 것이다. 이 방법에서는, 제1 포커스 세팅에 대한 마스크의 에어리얼 이미지가 생성되고, 에어리얼 이미지 데이터 기록에 저장된다. 에어리얼 이미지 데이터 기록은 이러한 데이터 기록을 기반으로 포토리소그래피 웨이퍼 노출을 시뮬레이션하는 알고리즘으로 옮겨진다. 이 경우, 시뮬레이션은 복수의 상호 다른 에너지 선량에 대해 수행된다. 이어서, 웨이퍼 표면으로부터 소정의 높이에서, 포토레지스트가 없는 영역으로부터 포토레지스트를 가진 영역을 분리하는 콘투어가 각각의 경우에 결정된다. 결과, 즉 콘투어는, 각각의 경우 각각의 에너지 선량에 대해서 파라미터로서 에너지 선량과 함께 콘투어 데이터 기록에 기록된다. 마지막으로, 콘투어 데이터 기록은 조합되어 제3 차원으로서 에너지 선량의 역수와 함께 3차원 멀티콘투어 데이터 기록을 형성하고, 콘투어에서 제로에서부터 제로 이외의 값까지의 변화에 기반하여, 마스크에서 위치에 의존하는 에너지 선량의 역수의 3차원 프로파일이 생성된다. 이러한 프로파일, 소위 효과적인 에어리얼 이미지가 출력 또는 저장 또는 자동적으로 평가된다. 상기 프로파일을 통한 섹션으로 동일한 것이 또한 발생할 수 있다. |
