| 发明名称 | 用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于光刻的包含杂取代的碳环芳基组分的组合物和方法，提供了用于浸没式光刻方法的新的光刻胶组合物。本发明还提供了一种处理光刻胶组合物的方法，包括：(a)在基材上施涂光刻胶组合物，所述组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料；以及(b)使光刻胶层浸没式曝光于使该光刻胶组合物活化的辐射下。本发明优选的光刻胶组合物包含一种或多种含杂取代的碳环芳基的材料。在浸没式光刻过程中，使用本发明特别优选的光刻胶，表现出减少光刻胶材料向与光刻胶层接触的浸没液中的滤出。 | ||
| 申请公布号 | CN101943856A | 申请公布日期 | 2011.01.12 |
| 申请号 | CN200910249079.0 | 申请日期 | 2009.11.19 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 发明人 | D·王;C·-B·徐;G·G·巴克雷 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/075(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 项丹 |
| 主权项 | 一种处理光刻胶组合物的方法，包括：(a)在基材上施涂光刻胶组合物，所述组合物包括：(i)一种或多种树脂，(ii)光活性组分，和(iii)一种或多种包含杂取代的碳环芳基的材料；以及(b)使光刻胶层浸没式曝光于使该光刻胶组合物活化的辐射下。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||