| 主权项 |
一种可排除反应室排气管线阻塞的装置，至少包含：一电浆洁净单元，连接至一半导体制程反应室之排气管线，以由该半导体制程反应室接受一排出气体，该电浆洁净单元具有一氩气供应器以导入氩气与该排出气体混合；以及一节流阀，设置于该排气管线，且位于该半导体制程反应室与该电浆洁净单元之间，其中该电浆洁净单元紧邻该节流阀；其中该电浆洁净单元更包含一电浆源，用以激活接受的该排出气体与该氩气之气体混合物，以分解该气体混合物成至少二组成成份。如申请专利范围第1项所述之装置，其中该电浆源包含一射频(RF)源。如申请专利范围第1项所述之装置，其中该电浆源包含一微波源。如申请专利范围第1项所述之装置，更包含一真空泵以与该电浆洁净单元相连接，用以由该电浆洁净单元将该气体混合物的组成成份导出。如申请专利范围第4项所述之装置，更包含一洗涤器与该真空泵相连接，该洗涤器用以由该气体混合物中除去粒子物质。如申请专利范围第5项所述之装置，其中该洗涤器包含一湿洗涤器。如申请专利范围第1项所述之装置，其中该排出气体包含氯化铵，且该组成成份包含氨及氢氯酸。一种维护反应室排气管线的系统，至少包含一电浆洁净单元，由一半导体制程反应室接收一排出气体；一真空泵；一节流阀，设置于该半导体制程反应室与该电浆洁净单元之间，且该电浆洁净单元紧邻该节流阀；以及一洗涤器；其中该电浆洁净单元更包含一氩气供应器，用以导入氩气与该排出气体混合，该电浆洁净单元更包含一电浆源，用以激活接收该排出气体与该氩气之气体混合物并分解为至少二种组成成份，该真空泵与该电浆洁净单元之出口连接，用以由该电浆洁净单元中导出该气体混合物之组成成份至该洗涤器中。如申请专利范围第8项所述之系统，其中该电浆源包含一射频(RF)源。如申请专利范围第8项所述之系统，其中该电浆源包含一微波源。如申请专利范围第8项所述之系统，其中该洗涤器用以由气体混合物中除去粒子物质。如申请专利范围第8项所述之系统，其中该洗涤器包含一湿洗涤器。如申请专利范围第8项所述之系统，其中该排出气体包含氯化铵，且该组成成份包含氨及氢氯酸。一种维护反应室排气管线的方法，至少包含：将半导体反应之排出气体导引至一电浆洁净单元，其中该排出气体包含氯化铵；导引一氩气至该电浆洁净单元；在该电浆洁净单元中，混合该排出气体与该氩气；激活该排出气体与该洁净气体的气体混合物至一电浆态；将该气体混合物经一排放管线由该电浆洁净单元排出；以及导引该气体混合物至一洗涤器。如申请专利范围第14项所述之方法，其中激活该气体混物之步骤系将气体混合物经一射频(RF)源处理。如申请专利范围第14项所述之方法，其中激活该气体混物之步骤系将气体混合物经一微波源处理。如申请专利范围第14项所述之方法，其中排出该气体混合物的步骤是藉由一真空泵连接至该电浆洁净单元，用以由该电浆洁净单元将该气体混合物的组成成份导出。如申请专利范围第14项所述之方法，其更包含一洗涤该气体混合物的步骤，用以除去该气体混合物中的粒子物质。如申请专利范围第18项所述之方法，其中洗涤该气体混合物的步骤包含使用一湿洗涤器。 |
