发明名称 INSTALLATION FOR THE VACUUM TREATMENT NOTABLY OF SUBSTRATES
摘要 Cette installation est remarquable en ce qu'elle est composée de plusieurs modules indépendants et alignés (M) comprenant chacun une chambre de traitement sous vide (C) et une chambre de transfert (B) avec moyens de transfert d'un substrat, dans une des différents chambres ou d'une chambre à une autre située en aval ou en amont, directement à côté ou séparée d'au moins un module, de sorte que pendant qu'un substrat est dans une chambre pour un traitement spécifique, un autre substrat peut être transféré dans une autre chambre pour subir un autre traitement.
申请公布号 CA2493988(C) 申请公布日期 2011.01.11
申请号 CA20032493988 申请日期 2003.07.23
申请人 TECMACHINE 发明人 FOUREZON, GILLES;POIRSON, JEAN-MARC
分类号 C23C14/56;C23C16/54;H01L21/00;H01L21/677 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人
主权项
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