发明名称 来自半导体处理系统利用多变量分析之转换量测资料
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.01.01
申请号 TW096103654 申请日期 2007.02.01
申请人 迪伯技术股份有限公司 发明人 王威;鲍君威;陈扬;贺伊可 威特;夕巴斯汀 艾格瑞特
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种利用多变量分析转换量测资料的方法,该量测资料系来自一半导体处理系统,该方法包含:a)获得一组量测资料,其系针对利用该处理系统所处理的一或多个基板加以量测或模拟;b)利用多变量分析来决定已获得之该组量测资料的一或多个主要变数;c)获得第一量测资料,其系针对利用该处理系统所处理的一或多个基板加以量测或模拟,其中该第一量测资料并非在a)中所获得的该组量测资料中之量测资料其中一者;以及d)利用在b)中所决定之一或多个主要变数,将在c)中所获得之该第一量测资料转换成第二量测资料。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中该组量测资料包含从照射一基板上之一结构所量度的一组绕射信号,而其中该第一量测资料系从照射一基板上之一结构所量度之一绕射信号。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中利用多变量分析系包含使用一线性或非线性分析。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中b)包含利用主成份分析法从所获得之该组量测资料计算出一或多个主成份。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,更包含:在b)之前,在所获得之该组量测资料上执行统计资料计算。如申请专利范围第5项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中b)包含:从所获得之该组量测资料中计算一共变异数矩阵;以及计算该共变异数矩阵之特征值与相对应之特征向量,其中将该一或多个特征值与特征向量当作一或多个主要变数。如申请专利范围第6项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中执行统计资料计算包含将已获得的该组量测资料集中化与正规化。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,更包含在由已决定的该一或多个主要变数所表示的已获得之该组量测资料中,确认变异性百分比。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,更包含:若已决定两个或以上的主要变数,基于由该主要变数所表示的变异性百分比,选择至少一个主要变数。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中d)包含:选择在b)中所决定之一或多个主要变数;以及将所选择之该一或多个主要变数映射至该第一量测资料上,以产生该第二量测资料。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,更包含:利用该第二量测资料以将一执行于该处理系统中之处理程序特征化。如申请专利范围第11项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中将处理程序特征化之该步骤包含:界定该处理程序之一程序视窗。如申请专利范围第11项之利用多变量分析转换量测资料的方法,更包含:利用该第二量测资料监视与控制该处理程序。如申请专利范围第1项之利用多变量分析转换量测资料的方法,更包含:在a)之前,针对在该处理系统中所执行的处理程序,收集该组量测资料;在b)之前,选择该处理系统之分析标的;在b)之前,选择执行该分析所用之一或多个终止准则;在b)之后,藉由计算与以该一或多个主要变数说明该组量测资料有关联之一或多个统计数据,确认在b)中所决定之该一或多个主要变数;在b)之后,判定该一或多个终止准则是否符合;若并不符合该一或多个终止准则,则调整下列其中之一或多个:该一或多个终止准则、该分析标的,或该多变量分析;在b)之后,利用一或多个图形辨识技术来确认在b)中所决定之该一或多个主要变数至少一者;以及利用该已确认之主要变数以特征化、调整、监视、或控制该处理程序。如申请专利范围第14项之利用多变量分析转换量测资料的方法,其中利用该已确认之主要变数的步骤包含:判定该第二量测资料与关于在一或多个基板上之一或多个结构之轮廓的程序性能资料之间的关系。一种电脑可读媒体,含有用以使一电脑利用多变量分析而转换来自一半导体处理系统之量测资料的电脑可执行指令,其包含用以执行下列步骤的指令:a)获得一组量测资料,该量测资料系针对利用该处理系统所处理的一或多个基板加以量测或模拟;b)利用多变量分析来决定已获得之该组量测资料之一或多个主要变数;c)获得第一量测资料,其系针对使用该处理系统所处理之一或多个基板加以量测或模拟,其中该第一量测资料并非在a)中所获得之该组量测资料中之量测资料其中一者;以及利用b)中所决定之一或多个主要变数,将在c)中所获得之该第一量测资料转换成第二量测资料。如申请专利范围第16项之电脑可读媒体,其中该组量测资料包含从照射一基板上之一结构所量度的一组绕射信号,而其中该第一量测资料系从照射一基板上之一结构所量度之一绕射信号。如申请专利范围第16项之电脑可读媒体,更包含:在b)之前,在所获得之该组量测资料上执行统计资料计算。如申请专利范围第18项之电脑可读媒体,其中b)包含用以执行下列步骤的指令:从所获得之该组量测资料中计算出一共变异数矩阵;以及计算该共变异数矩阵之特征值与相对应之特征向量,其中将该一或多个特征值及特征向量当作一或多个主要变数。如申请专利范围第16项之电脑可读媒体,更包含用以执行下列步骤的指令:若已决定两个或以上的主要变数,基于由该主要变数所表示的变异性百分比,选择至少一个主要变数。如申请专利范围第16项之电脑可读媒体,其中d)包含用以执行下列步骤的指令:挑选在b)中所决定之一或多个主要变数;以及将所挑选之一或多个主要变数映射至该第一量测资料上,以产生该第二量测资料。如申请专利范围第16项之电脑可读媒体,其中包含用以执行下列步骤的指令:在a)之前,针对在处理系统中所执行的处理程序,收集该组量测资料;在b)之前,选择该处理系统之分析标的;在b)之前,选择执行该分析所用之一或多个终止准则;在b)之后,藉由计算与以该一或多个主要变数说明该组量测资料有关联之一或多个统计数据,确认在b)中所决定之该一或多个主要变数;在b)之后,测定该一或多个终止准则是否符合;若并不符合该一或多个终止准则,则调整下列其中一或多个:该一或多个终止准则、该分析标的,或该多变量分析;在b)之后,利用一或多个图形辨识技术来确认在b)中所决定之该一或多个主要变数至少一者;以及利用该已确认之主要变数以特征化、调整、监视、或控制该处理程序。如申请专利范围第22项之电脑可读媒体,其中利用该已确认之主要变数的步骤包含:判定该第二量测资料与关于在一或多个基板上之一或多个结构之轮廓的程序性能资料之间的关系。一种利用多变量分析转换量测资料的系统,该量测资料来自一半导体处理系统,该系统包含:一量测系统,用以测量一组量测资料,该量测资料系针对利用该处理系统加以处理的一或多个基板;以及一资料处理系统,其用以:a)获得该组量测资料;b)利用多变量分析,决定已获得之该组量测资料的一或多个主要变数;c)针对利用该处理系统加以处理的一或多个基板,获得利用该量测系统加以测量的第一量测资料,其中该第一量测资料并非在a)中所获得的该组量测资料中之量测资料其中一者;以及利用在b)中所决定之该一或多个主要变数,将在c)中所获得之该第一量测资料转换成第二量测资料。如申请专利范围第24项之利用多变量分析转换量测资料的系统,其中该量测系统包含一椭圆偏光计或反射计,其中该组量测资料包含利用该椭圆偏光计或反射计而由照射一基板上之一结构所测量出的一组绕射信号,且其中该第一量测资料为利用该椭圆偏光计或反射计而由照射一基板上之一结构所测量出的绕射信号。
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