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一种合成矽石玻璃光学材料，该材料能够抵抗光学损坏以及使用于小于250nm波长区域，合成矽石玻璃光学材料实质上包含合成矽石玻璃，H2及OH，合成矽石玻璃光学材料包含H2浓度在0.1x1017至5.0x1017分子/立方公分范围之间，其中合成矽石玻璃光学材料在温度低于600℃下负载H2，具有OH浓度在0.1至600ppm范围之间，以及当经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次5雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲界于-1.0及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中H2浓度范围在0.4x1017至5.0x1017分子/立方公分之间以及OH浓度为小于200ppm。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中H2浓度在0.1x1017至2.0x1017分子/立方公分范围之间以及OH浓度在0.1至200ppm范围之间。依据申请专利范围第3项之合成矽石玻璃光学材料，其中OH浓度范围在30至200ppm之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中H2浓度范围在0.1x1017至2.0x1017分子/立方公分之间以及OH浓度在0.1至125ppm范围之间。依据申请专利范围第5项之合成矽石玻璃光学材料，其中OH浓度范围在50至100ppm之间。依据申请专利范围第3项之合成矽石玻璃光学材料，其中OH浓度范围在0.1至100ppm之间以及H2浓度范围在0.1x1017至1.0x1017分子/立方公分之间。依据申请专利范围第7项之合成矽石玻璃光学材料，其中OH浓度范围在0.1至50ppm之间。依据申请专利范围第8项之合成矽石玻璃光学材料，其中H2浓度范围在0.4x1017至1.0x1017分子/立方公分之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.1及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为40微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.5及0.5nm/cm之间。依据申请专利范围第11项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为40微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.1及0.5nm/cm之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中合成矽石玻璃光学材料具有H2浓度范围在0.1x1017至5.0x1017分子/立方公分之间，以及具有OH浓度在0.1至125ppm范围之间，以及当经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-1.0及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第13项之合成矽石玻璃光学材料，其中H2浓度范围在0.4x1017至5.0x1017分子/立方公分之间。依据申请专利范围第14项之合成矽石玻璃光学材料，其中H2浓度范围在0.4x1017至2.0x1017分子/立方公分之间。依据申请专利范围第13项之合成矽石玻璃光学材料，其中OH浓度范围在0.1至100ppm之间。依据申请专利范围第13项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.1及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第13项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为40微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.5及0.5nm/cm之间。依据申请专利范围第18项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为40微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.1及0.5nm/cm之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中合成矽石玻璃光学材料具有H2浓度范围在0.4x1017至1.0x1017分子/立方公分之间，以及具有OH浓度在0.1至600ppm，以及当经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-1.0及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第20项之合成矽石玻璃光学材料，其中OH浓度为小于200ppm。依据申请专利范围第21项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.1及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第20项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为40微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.5及0.5nm/cm之间。依据申请专利范围第23项之合成矽石玻璃光学材料，其中经过操作于193nm以及照射度为40微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-0.1及0.5nm/cm之间。依据申请专利范围第20项之合成矽石玻璃光学材料，其中OH浓度范围在0.1至200ppm之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中合成矽石玻璃光学材料具有H2浓度范围在0.4x1017至1.0x1017分子/立方公分之间，以及具有OH浓度范围在100至600ppm之间，以及当经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-1.0及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第1项之合成矽石玻璃光学材料，其中合成矽石玻璃光学材料具有H2浓度范围在0.1x1017至0.5x1017分子/立方公分之间，以及具有OH浓度范围在100至125ppm之间，以及当经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-1.0及1.0nm/cm之间。一种制造合成矽石玻璃光学材料之方法，该方法包含下列步骤：a)制造出含有为气体形式含矽化合物之气流，其能够藉由氧化或火焰水解转变为矽石以及将气流通入燃烧器火焰内以形成熔融矽石粉尘之非晶质颗粒；b)沉积熔融矽石粉尘颗粒于支撑上以形成熔融矽石粉尘预制件；c)固结粉尘预制件为透明玻璃物体；以及d)藉由在存在含有氢气中对玻璃物体加热至温度小于600℃下，其足以使氢气扩散至玻璃物体内而进行氢气加载；因而产生矽石玻璃光学材料实质上包含合成矽石玻璃，H2及OH，合成矽石玻璃光学材料，以及H2浓度在0.1x1017至5.0x1017分子/立方公分范围之间，OH浓度在0.1至600ppm范围之间，以及当经过操作于193nm以及照射度为70微焦耳/平方公分之100亿次雷射脉冲后在633nm下呈现出雷射导致之波前扭曲在-1.0及1.0nm/cm之间。依据申请专利范围第28项之方法，其中玻璃物体具有H2浓度在0.1x1017至2.0x1017分子/立方公分范围之间，OH浓度在0.1至200ppm范围之间以及在温度小于800℃下进行氢气加载。依据申请专利范围第29项之方法，其中在温度小于600℃下进行氢气加载步骤。 |
