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发明名称 METHODS FOR SILICON OXIDE AND OXYNITRIDE DEPOSITION USING SINGLE WAFER LOW PRESSURE CVD
摘要
申请公布号 KR101002445(B1) 申请公布日期 2010.12.17
申请号 KR20097020268 申请日期 2002.12.19
申请人 发明人
分类号 C23C16/40;C23C16/42;C23C16/30;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/56;H01L21/205;H01L21/316;H01L21/318 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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