曝光参数的决定方法以及曝光方法

摘要

本发明提供一种曝光参数的决定方法以及曝光方法。所述曝光参数的决定方法决定使用来自光源的光和光学系统在被曝光体上曝光标线片图形的像时的曝光参数，该决定方法的特征在于，具有：取得半导体存储器的电路图形的功能单位图形和代表所述电路图形的外围电路图形的代表图形的信息，通过进行所述功能单位图形及所述代表图形的光学像计算，决定所述光源以及所述光学系统中的至少一方的曝光参数的步骤。

主权项

一种曝光参数的决定方法，所述方法决定使用来自光源的光和光学系统在被曝光体上曝光标线片图形的像时的曝光参数，该决定方法的特征在于，具有：取得半导体存储器的电路图形的功能单位图形和代表所述电路图形的外围电路图形的代表图形的信息，通过进行所述功能单位图形及所述代表图形的光学像计算，决定所述光源以及所述光学系统中的至少一方的曝光参数的步骤。