Erzeugen einer hydrophoben Oberfläche empfindlicher Dielektrika mit kleinemεvon Mikrostrukturbauelementen durch eine in-situ-Plasmabehandlung

摘要

Siliziumbasierte dielektrische Materialien mit kleinem ε erhalten bessere hydrophobe Oberflächeneigenschaften auf der Grundlage von Plasmabehandlung unter Anwendung von wasserstoff- und kohlenstoffenthaltenden Radikalen. Zu diesem Zweck wird die Oberfläche des dielektrischen Materials mit kleinem ε der Einwirkung dieser Radikalen zumindest in einem in-situ-Prozess in Verbindung mit einem weiteren reaktiven Plasmaprozess unterzogen, der beispielsweise zum Strukturieren des dielektrischen Materials mit kleinem ε verwendet wird. Folglich werden bessere Oberflächeneigenschaften erzeugt oder wieder hergestellt, ohne dass eine deutlich längere Produktbearbeitungszeit hervorgerufen wird.