覆盖精度测量游标及其形成方法

摘要

一种覆盖精度测量游标及其形成方法。根据一个实施例，形成覆盖精度测量游标的方法包括以下步骤：在半导体衬底上的预定区域中形成游标图案；使用所述游标图案作为掩模来蚀刻半导体衬底，形成第一深度的沟槽；形成另一游标图案，其具有比所述游标图案的宽度更宽的宽度，所述另一游标图案包括所述游标图案；使用所述另一游标图案作为掩模来执行蚀刻工艺，由此形成第二深度的沟槽，其具有预定宽度的阶梯；剥离所述游标图案和所述另一游标图案，且然后形成绝缘膜来掩埋沟槽；以及，蚀刻绝缘膜使得游标区域的半导体衬底暴露。

主权项

一种覆盖精度测量游标，包括：两个或更多的第一游标，形成在半导体衬底的预定区域中且它们彼此隔开，所述第一游标具有一宽度；以及在所述第一游标上形成的第二游标，所述第二游标具有比第一游标的宽度窄的宽度。