| 发明名称 | 含咪唑侧基的聚乙炔高分子及其制备方法和应用 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种含咪唑侧基的聚乙炔高分子，其结构式如下：<img file="200810197311.6_ab_0.GIF" wi="175" he="181" />，式中n＝30～40。其制法为1-(6-溴已氧基)-4-碘苯和苯乙炔在室温下反应得到1-(6-溴已氧基)-4-(苯乙炔基)苯；以1-(6-溴已氧基)-4-(苯乙炔基)苯为单体，聚合生成含咪唑侧基的聚乙炔高分子P0。以P0为前体高分子和咪唑在80～100℃下反应2～3天，得到含咪唑侧基的聚乙炔高分子P1。本发明P1侧链上的咪唑基团可以与特定金属离子进行配位，使高分子的荧光发生淬灭，从而对特定金属离子，如铜离子和钴离子具有选择性识别作用。当所述高分子的荧光被金属离子淬灭后，在体系中加入对金属离子具有强络合作用的阴离子，如氰根离子，即可使所述高分子的荧光恢复。从而可以反向识别氰根离子。 | ||
| 申请公布号 | CN101381424B | 申请公布日期 | 2010.12.01 |
| 申请号 | CN200810197311.6 | 申请日期 | 2008.10.21 |
| 申请人 | 武汉大学 | 发明人 | 李振;曾琪;秦金贵;唐本忠 |
| 分类号 | C08F138/00(2006.01)I;C08F8/30(2006.01)I;G01N21/75(2006.01)I | 主分类号 | C08F138/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 武汉天力专利事务所 42208 | 代理人 | 程祥;冯卫平 |
| 主权项 | 1.具有溴侧基的聚乙炔高分子，结构式如下：<img file="FSB00000118196300011.GIF" wi="252" he="557" />式中n＝30～40。 | ||
| 地址 | 430072 湖北省武汉市武昌珞珈山 | ||