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发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP1452918(B1) 申请公布日期 2010.11.24
申请号 EP20020788696 申请日期 2002.11.29
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 IWAI, TAKESHI;KUBOTA, NAOTAKA;FUJIMURA, SATOSHI;HADA, HIDEO
分类号 G03F7/039;C08F220/18;C08F220/28;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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