| 主权项 |
一种液晶显示装置，其系具有：第一基板；第二基板，其系以与前述第一基板相对之方式设置；液晶层，其系设于前述第一基板与前述第二基板之间；第一电极，其系形成于前述第一基板上；第二电极，其系形成于前述第二基板上；层间绝缘膜，其系设于前述第一电极与前述第一基板间；及壁构造体，其系与前述层间绝缘膜一体形成；具备复数像素，其系各个包含：前述第一电极；前述第二电极；及前述液晶层，其系设于前述第一电极与前述第二电极间；在前述复数像素的各周围具有遮光区域；前述壁构造体规则配置于前述遮光区域；前述层间绝缘膜与前述壁构造体由单一之感光性树脂膜形成；前述壁构造体包围前述复数像素之至少一者；其中在前述第一基板上进一步具有复数开关元件，其系电性连接于前述第一电极，前述开关元件的至少一部份被前述层间绝缘膜覆盖。如请求项1之液晶显示装置，其中前述复数像素之各个所包含的前述第一电极包含透明电极与反射电极。如请求项1之液晶显示装置，其中前述壁构造体具有倾斜的侧面，前述第一电极延设至前述侧面上。如请求项1之液晶显示装置，其中前述液晶层系垂直配向型液晶层，至少施加特定电压时，形成至少一个液晶域，其包含彼此配向于不同方向之液晶分子。如请求项1之液晶显示装置，其中前述第一电极及/或前述第二电极具有形成于特定位置之复数开口部或缺口部。如请求项5之液晶显示装置，其中前述第一电极及/或前述第二电极具有形成于特定位置之至少二个开口部及至少一个缺口部。如请求项5之液晶显示装置，其中前述复数开口部或缺口部只形成于前述第一电极。如请求项5之液晶显示装置，其中前述液晶层系垂直配向型液晶层，至少施加特定电压时，形成至少二个液晶域，其分别呈轴对称配向，前述至少二个液晶域的各轴对称配向中心轴形成于前述复数开口部内或其附近。如请求项1之液晶显示装置，其中前述壁构造体具有因壁间隙而分离之壁。如请求项9之液晶显示装置，其中存在于一个像素周围之前述壁间隙的长度对于像素周围长度系40%以下。如请求项1之液晶显示装置，其中在前述遮光区域规则配置支持体，其系规定前述液晶层的厚度。如请求项11之液晶显示装置，其中前述壁构造体具有因壁间隙而分离之壁，前述支持体配置于前述壁间隙。如请求项11之液晶显示装置，其中设前述支持体的直径为WL(μm)，每规则单位(0.12 mm2)的前述支持体的配置个数为N(个)，及前述复数像素的长边方向的间距为PL(μm)时，以WL×N/PL所定义的配置密度D满足0.01@sIMGCHAR!d10031.TIF@eIMG!D@sIMGCHAR!d10030.TIF@eIMG!0.3的关系。如请求项1之液晶显示装置，其中前述液晶层系垂直配向型液晶层，至少施加特定电压时，形成至少一个液晶域，其分别呈轴对称配向；前述壁构造体具有倾斜的侧面，垂直于前述壁构造体及前述层间绝缘膜之前述第一基板之面的剖面形状系以形成前述至少一个液晶域的轴对称配向中心轴之区域为底部之连续形状；前述倾斜的侧面对于前述第一基板表面之倾斜角系45度以下。如请求项1之液晶显示装置，其中具有一对偏光板，其系以经由前述第一基板与前述第二基板而彼此相对之方式配置，进一步在前述第一基板及/或前述第二基板与前述一对偏光板之间具有至少一个双轴性光学各向异性媒体层。如请求项1之液晶显示装置，其中进一步具有一对偏光板，其系以经由前述第一基板与前述第二基板而彼此相对之方式配置，进一步在前述第一基板及/或前述第二基板与前述一对偏光板之间具有至少一个单轴性光学各向异性媒体层。一种液晶显示装置之制造方法，该液晶显示装置具有：第一基板；第二基板，其系以与前述第一基板相对之方式设置；液晶层，其系设于前述第一基板与前述第二基板间；第一电极，其系形成于前述第一基板上；电路元件，其系电性连接于前述第一电极；第二电极，其系形成于前述第二基板上；层间绝缘膜，其系设于前述第一电极与前述第一基板间；及壁构造体，其系与前述层间绝缘膜一体形成；具备复数像素，其系各个包含：前述第一电极；前述第二电极；及前述液晶层，其系设于前述第一电极与前述第二电极间；在前述复数像素的周围具有遮光区域，前述壁构造体规则配置于前述遮光区域；其制造方法包含以下步骤：在第一基板上形成电路元件之步骤；形成覆盖前述电路元件的正型感光性树脂膜之步骤；使前述感光性树脂膜曝光，且形成曝光量彼此不同的特定区域之步骤；藉由使已曝光的前述感光性树脂膜显影，形成具有露出前述电路元件一部份的接触孔且与前述壁构造体一体形成之层间绝缘膜之步骤；及在前述层间绝缘膜上形成第一电极之步骤。如请求项17之液晶显示装置之制造方法，其中形成前述层间绝缘膜之步骤包含以下步骤：形成表面实质平坦的第一区域、及表面具有凹凸形状的第二区域；形成前述第一电极之步骤包含：在前述第一区域的前述层间绝缘膜上形成透明电极之步骤、及在前述第二区域的前述层间绝缘膜上形成反射电极之步骤。如请求项18之液晶显示装置之制造方法，其中前述曝光步骤包含：第一曝光步骤，其使用第一光罩，形成成为前述壁构造体的区域及其以外的区域；及第二曝光步骤，其使用第二光罩，于前述其他区域形成前述第一区域及前述第二区域。如请求项17之液晶显示装置之制造方法，其中形成前述第一电极及/或前述第二电极之步骤包含：形成导电膜之步骤、及将前述导电膜图案化之步骤；前述图案化之步骤包含以下步骤：在前述第一电极及/或前述第二电极的特定位置形成复数开口部或缺口部。一种液晶显示装置，其具有：第一基板；第二基板，其系以与前述第一基板相对之方式设置；液晶层，其系设于前述第一基板与前述第二基板间；第一电极，其系形成于前述第一基板上；第二电极，其系形成于前述第二基板上；及层间绝缘膜，其系设于前述第一电极与前述第一基板间，具有沟构造体；具备复数像素，其系各个包含：前述第一电极；前述第二电极；及前述液晶层，其系设于前述第一电极与前述第二电极间；在前述复数像素的各周围具有遮光区域，前述沟构造体规则配置于前述遮光区域；前述液晶层系垂直配向型液晶层，至少施加特定电压时，形成至少一个液晶域，其包含彼此配向于不同方向之液晶分子；前述沟构造体作用为规定形成于前述至少一个液晶域之像素的外延附近之界限；前述沟构造体沿着前述复数像素之各个的所有的边而形成；其中在前述第一基板上进一步具有复数开关元件，其系电性连接于前述第一电极，前述开关元件的至少一部份被前述层间绝缘膜覆盖。如请求项21之液晶显示装置，其中前述液晶层系垂直配向型液晶层，至少施加特定电压时，形成至少一个液晶域，其包含彼此配向于不同方向之液晶分子。如请求项21之液晶显示装置，其中前述第一电极及/或前述第二电极具有形成于特定位置之复数开口部或缺口部。如请求项23之液晶显示装置，其中前述第一电极及/或前述第二电极具有形成于特定位置之至少二个开口部及至少一个缺口部。如请求项23之液晶显示装置，其中前述复数开口部或缺口部只形成于前述第一电极。如请求项23之液晶显示装置，其中前述液晶层系垂直配向型液晶层，至少施加特定电压时，形成至少二个液晶域，其分别呈轴对称配向，前述至少二个液晶域的各轴对称配向中心轴形成于前述复数开口部内或其附近。如请求项21之液晶显示装置，其中前述液晶层系垂直配向型液晶层，至少施加特定电压时，形成至少二个液晶域，其分别呈轴对称配向；前述沟构造体亦配置于前述至少二个液晶域内彼此邻接之一对液晶域的边界。如请求项27之液晶显示装置，其中在前述复数像素之各个内具有进一步的遮光区域，配置于前述边界之前述沟构造体设于前述更加进一步的遮光区域。如请求项21之液晶显示装置，其中前述第一电极包含：透明电极，其规定透过区域；及反射电极，其规定反射区域。如请求项29之液晶显示装置，其中前述沟构造体亦配置于前述透过区域与前述反射区域之边界。如请求项21之液晶显示装置，其中具有一对偏光板，其系以经由前述第一基板与前述第二基板而彼此相对之方式配置，进一步在前述第一基板及/或前述第二基板与前述一对偏光板之间具有至少一个双轴性光学各向异性媒体层。如请求项21之液晶显示装置，其中进一步具有一对偏光板，其系以经由前述第一基板与前述第二基板而彼此相对之方式配置，进一步在前述第一基板及/或前述第二基板与前述一对偏光板之间具有至少一个单轴性光学各向异性媒体层。一种液晶显示装置之制造方法，该液晶显示装置具有：第一基板；第二基板，其系以与前述第一基板相对之方式设置；液晶层，其系设于前述第一基板与前述第二基板间；第一电极，其系形成于前述第一基板上；电路元件，其系电性连接于前述第一电极；第二电极，其系形成于前述第二基板上；及层间绝缘膜，其系设于前述第一电极与前述第一基板间且具有沟构造体；具备复数像素，其系各个包含：前述第一电极；前述第二电极；及前述液晶层，其系设于前述第一电极与前述第二电极间；在前述复数像素的周围具有遮光区域，前述沟构造体规则配置于前述遮光区域；其制造方法包含以下步骤：在第一基板上形成电路元件之步骤；形成覆盖前述电路元件的正型感光性树脂膜之步骤；使前述感光性树脂膜曝光，且形成曝光量彼此不同的特定区域之步骤；藉由使已曝光的前述感光性树脂膜显影，形成具有露出前述电路元件一部份的接触孔且与前述沟构造体之前述层间绝缘膜之步骤；及在前述层间绝缘膜上形成第一电极之步骤。如请求项33之液晶显示装置之制造方法，其中形成前述层间绝缘膜之步骤包含以下步骤：形成表面实质平坦的第一区域、及表面具有凹凸形状的第二区域；形成前述第一电极之步骤包含：在前述第一区域的前述层间绝缘膜上形成透明电极之步骤、及在前述第二区域的前述层间绝缘膜上形成反射电极之步骤。如请求项34之液晶显示装置之制造方法，其中前述曝光步骤包含：第一曝光步骤，其系使用第一光罩，形成成为前述第二区域及前述沟构造体之区域与其他区域；及第二曝光步骤，其系使用第二光罩，于前述其他区域形成前述第一区域及前述接触孔。如请求项33之液晶显示装置之制造方法，其中形成前述第一电极及/或前述第二电极之步骤包含：形成导电膜之步骤、及将前述导电膜图案化之步骤；前述图案化之步骤包含以下步骤：在前述第一电极及/或前述第二电极的特定位置形成复数开口部或缺口部。如请求项21之液晶显示装置，其中具有规定前述液晶层之厚度之支持体，前述支持体形成于前述沟构造体内。 |
