发明名称 |
一种高纯度2,5-吡啶二羧酸的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种高纯度2,5-吡啶二羧酸的制备方法,所述的制备方法包括如下步骤:以6-甲基烟酸或6-甲基烟酸酯为原料,在水溶剂中或碱水溶液中用氧化剂KMnO4充分氧化,所得氧化反应液滤除不溶物MnO2后酸析得到粗品,粗品用酸碱精制即得到所述的高纯度2,5-吡啶二羧酸。本发明克服了现有6-甲基-3-乙基吡啶一步氧化法制备方法中选择性低、提纯难,收率低、成本高及无产业化价值等不足,具有操作方便、选择性好、收率高、经济性良好、可有效实现工业化生产并进一步拓展其应用的优势。 |
申请公布号 |
CN101857567A |
申请公布日期 |
2010.10.13 |
申请号 |
CN200910097325.5 |
申请日期 |
2009.04.07 |
申请人 |
浙江鼎龙化工有限公司 |
发明人 |
金宁人;王雪亮;施云龙 |
分类号 |
C07D213/807(2006.01)I;C07D213/80(2006.01)I |
主分类号 |
C07D213/807(2006.01)I |
代理机构 |
杭州天正专利事务所有限公司 33201 |
代理人 |
黄美娟;王兵 |
主权项 |
一种高纯度2,5-吡啶二羧酸的制备方法,其特征在于所述的制备方法包括如下步骤:以6-甲基烟酸或6-甲基烟酸酯为原料,以水或碱水溶液为反应溶剂,用氧化剂KMnO4充分氧化,所得氧化反应液滤除不溶物MnO2后酸析得到粗品,粗品用酸碱精制即得到所述的高纯度2,5-吡啶二羧酸。 |
地址 |
310016 浙江省杭州市江干区庆春东路66号庆春发展大厦B座16楼 |