| 发明名称 | 曝光头、曝光头的控制方法、图像形成装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抑制劣化所引起的发光元件的光量变动，从而能够实现良好的曝光动作的曝光头、曝光头的控制方法及图像形成装置。所述曝光头具备：发光元件(2951)；将来自发光元件(2951)的光成像的成像光学系统；相对于发光元件(2951)配置的多个参考元件(Erf)；控制发光元件(2951)的发光并且在潜像形成动作中熄灭多个参考元件的控制机构，其中，控制机构在不进行潜像形成动作的时刻根据发光的发光元件(2951)及多个参考元件(Erf)的光量求解发光元件(2951)的劣化程度，并且，根据劣化程度控制潜像形成动作中的发光元件的光量。 | ||
| 申请公布号 | CN101859085A | 申请公布日期 | 2010.10.13 |
| 申请号 | CN201010156425.3 | 申请日期 | 2010.03.30 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 田中博 |
| 分类号 | G03G15/043(2006.01)I;B41J2/447(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/043(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 张宝荣 |
| 主权项 | 一种曝光头，其特征在于，具备：发光元件；将来自所述发光元件的光成像的成像光学系统；相对于所述发光元件配置的多个参考元件；控制所述发光元件的发光并且在潜像形成动作中熄灭所述参考元件的控制机构，所述控制机构在不进行所述潜像形成动作的时刻根据发光的所述发光元件及所述多个参考元件的光量求解所述发光元件的劣化程度，并且，根据所述劣化程度控制所述潜像形成动作中的所述发光元件的光量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||