| 发明名称 | 高负电动势多面体倍半硅氧烷组合物及无损坏半导体湿式清洁方法 | ||
| 摘要 | 一种用以自集成电路基板移除微粒物质的组合物，包括(a)一或多种不含金属离子的碱；(b)多面体倍半硅氧烷的水溶性不含金属离子的鎓盐；(c)氧化剂；和(d)不含金属离子的水，及由合并包括(a)、(b)、(c)和(d)的成份而得的组合物。一种用以自集成电路装置表面移除微粒物质的方法，包括在表面施用包括(a)、(b)、(c)和(d)的组合物或在表面施用由合并包括(a)、(b)、(c)和(d)的成份而得的组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN101855334A | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN200880115634.4 | 申请日期 | 2008.11.12 |
| 申请人 | 沙琛公司 | 发明人 | 郝建军 |
| 分类号 | C11D11/00(2006.01)I;H05K3/26(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I;C11D3/08(2006.01)I;C11D3/16(2006.01)I;C11D7/14(2006.01)I;C11D7/22(2006.01)I;C11D3/02(2006.01)I;C11D7/06(2006.01)I;C11D3/39(2006.01)I;C11D3/395(2006.01)I | 主分类号 | C11D11/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 周长兴 |
| 主权项 | 一种组合物，包含：(a)一或多种不含金属离子的碱；(b)多面体倍半硅氧烷的水溶性不含金属离子的盐；(c)氧化剂；和(d)不含金属离子的水。 | ||
| 地址 | 美国德克萨斯州 | ||