| 主权项 |
一种制造一相移光罩之方法，包含下列步骤：提供一透光基板；形成一图案化遮光层于该透光基板之一表面上；形成复数个第一凹陷区于该透光基板内，其中该复数个第一凹陷区系与该图案化遮光层邻接；以及于每一该复数个第一凹陷区与该表面之交界处分别形成复数个第二凹陷区，其中该复数个第一凹陷区具有一第一深度不同于该复数个第二凹陷区之一第二深度。如请求项1所述之方法，其中形成该第一凹陷区及该第二凹陷区之步骤包含：形成一第一图案化光阻层于该透光基板及该遮光层上；以该第一图案化光阻层为罩幕，蚀刻该透光基板之该部份至该第一深度，以形成该第一凹陷区；形成一第二图案化光阻层于该透光基板及该遮光层上；以及以该第二图案化光阻层为罩幕，蚀刻该透光基板之另一部份至该第二深度，以形成该第二凹陷区。如请求项1所述之方法，其中该该透光基板包含一透光区与该图案化遮光层及该第二凹陷区邻接，且该方法更包含调整该第二深度，以改变该透光区与该第二凹陷区间之一第一相位差。如请求项3所述之方法，其中调整该第二深度之步骤包含：使该第一相位差范围约为30度至150度。如请求项3所述之方法，更包含：决定该第一深度，使该透光区与该第一凹陷区具有约为180度之一第二相位差。如请求项3所述之方法，其中该透光区与该第一凹陷区系呈矩形。如请求项1所述之方法，该遮光层之材质系由选自金属铬。如请求项1所述之方法，其中该图案化遮光层的宽度约为90毫微米。一种相移光罩，包含：一透光基板，包含复数个第一凹陷区与复数个第二凹陷区；以及一图案化遮光层于该透光基板之一表面上；其中该复数个第一凹陷区系与该图案化遮光层邻接，该复数个第二凹陷区系分别介于每一该复数个第一凹陷区与该表面之间，且该复数个第一凹陷区具有一第一深度不同于该复数个第二凹陷区之一第二深度。如请求项9所述之相移光罩，其中该透光基板更包含一透光区与该图案化遮光层及该第二凹陷区邻接，其中该第二深度系用以调整该透光区与该第二凹陷部之间之一第一相位差。如请求项10所述之相移光罩，其中该第一相位差范围约为30度至150度。如请求项10所述之相移光罩，其中该透光区与该第一凹陷部之间具有180度之一第二相位差。如请求项10所述之相移光罩，其中该透光区与该第一凹陷区系呈矩形。如请求项9所述之相移光罩，该图案化遮光层之材质系由选自金属铬。如请求项9所述之相移光罩，其中该图案化遮光层的宽度约为90毫微米。 |
