发明名称 | 清洗基板的装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种清洗基板的装置,包括:清洗室;设置于所述清洗室内的化学处理液喷嘴,用于向基板喷洒化学处理液;设置于所述清洗室内的循环水喷嘴,用于向所述基板喷洒循环水;与所述清洗室底部和所述化学处理液喷嘴连接的化学处理液循环装置;与所述清洗室底部和所述循环水喷嘴连接的循环水循环装置;以及设置于所述化学处理液喷嘴和所述循环水喷嘴之间的分离装置,用于向所述基板吹送气体以将所述基板上的化学处理液和循环水分离。本发明的技术方案有效避免了化学处理液进入循环水回收管道污染循环水而导致的产品不良问题,以及有效避免了循环水进入化学处理液回收管道使化学处理液浓度降低而导致的设备停机问题。 | ||
申请公布号 | CN101847567A | 申请公布日期 | 2010.09.29 |
申请号 | CN200910080745.2 | 申请日期 | 2009.03.26 |
申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 黄福林 |
分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 刘芳 |
主权项 | 一种清洗基板的装置,包括:清洗室;设置于所述清洗室内的化学处理液喷嘴,用于向基板喷洒化学处理液对所述基板进行化学预处理;设置于所述清洗室内的循环水喷嘴,用于向所述基板喷洒循环水对所述基板进行清洗处理;与所述清洗室底部和所述化学处理液喷嘴连接的化学处理液循环装置,用于回收处理过基板的化学处理液,并将化学处理液提供给所述化学处理液喷嘴;与所述清洗室底部和所述循环水喷嘴连接的循环水循环装置,用于回收处理过基板的循环水,并将循环水提供给所述循环水喷嘴;其特征在于,还包括:设置于所述化学处理液喷嘴和所述循环水喷嘴之间的分离装置,用于向所述基板吹送气体以将所述基板上的化学处理液和循环水分离。 | ||
地址 | 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 |