| 发明名称 |
Method for manufacturing silicon nanodot film for light emission |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1434278(B1) |
申请公布日期 |
2010.09.22 |
| 申请号 |
EP20030029649 |
申请日期 |
2003.12.22 |
| 申请人 |
ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE |
发明人 |
PARK, JONG HYURK |
| 分类号 |
H01L33/00;B82B3/00;C23C14/00;C23C14/34;C23C16/44;C23C16/54 |
主分类号 |
H01L33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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