旋转卡盘

摘要

本发明涉及一种在旋转基底的同时进行如清洗处理和蚀刻处理等处理过程中所使用的旋转卡盘。该旋转卡盘包括旋转头，所述旋转头上放置有基底；驱动部件，所述驱动部件被配置为使旋转头转动；以及安装在所述旋转头上的固定支架，在对应于所述基底的平台区的位置，所述固定支架包括与所述基底的平台区的平台面相接触的接触表面，以防止所述平台区引起的涡流。由于固定支架与基底平台区形状相同，由平台区引起的气流不平衡可被抑制，从而可以将蚀刻剂均匀地注射到基底背面。

主权项

一种旋转卡盘，其包括：可旋转的旋转头，其上放置有基底；驱动单元，其被配置为使所述旋转头旋转；主轴，其被配置为连接所述驱动单元和所述旋转头；以及固定支架，其安装在所述旋转头的边缘处并设置于与所述基底的平台区相对应的位置；所述固定支架包括板以及基座，所述基座用于从所述旋转头的顶面支撑所述板，所述板包括接触面以及曲面，所述接触面与所述平台区的平台面相接触，所述曲面与所述基底具有相同的圆周并与所述平台区形状相同；所述板与所述基底具有相同厚度，所述板由所述基座支撑，以使得所述板从所述旋转头的顶面与所述基底具有相同的高度；所述板的形状随着置于所述旋转头上的所述基底的平台区的形状与尺寸而改变，所述固定支架安装在置于所述旋转头上的所述基底的平台区处，使得所述基底形成完好的圆形，以防止所述平台区引起的涡流。