发明名称 阵列基板及其制造方法和液晶面板
摘要 本发明涉及一种阵列基板及其制造方法和液晶面板。该阵列基板的钝化层上形成有沟槽,且沟槽对应形成在相邻的两像素电极之间;沟槽的深度小于钝化层的厚度。该方法包括:在衬底基板上形成多薄膜层的图案;在形成多薄膜层的衬底基板上形成钝化层;在钝化层上形成钝化层过孔和上述沟槽;在形成沟槽的钝化层上沉积透明导电膜层;采用构图工艺形成矩阵形式的多个像素电极。本发明的液晶面板包括本发明的阵列基板。本发明在像素电极区域之外的钝化层上形成沟槽,使得像素电极材料层可以在沟槽的边缘处形成断层,减少或避免相邻像素电极的连通短路,从而提高成品率。
申请公布号 CN101833204A 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200910079952.6 申请日期 2009.03.13
申请人 北京京东方光电科技有限公司 发明人 谢振宇;林承武;陈旭;刘翔
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 刘芳
主权项 一种阵列基板,包括衬底基板及其上的多薄膜层,所述多薄膜层包括栅极扫描线、数据扫描线和薄膜晶体管,在所述多薄膜层上覆盖有钝化层,所述钝化层上有矩阵形式的多个像素电极,其特征在于:所述钝化层上形成有沟槽,且所述沟槽对应形成在相邻的两个像素电极之间;所述沟槽的深度小于所述钝化层的厚度。
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