发明名称 润滑剂、磁记录介质和滑动头
摘要 本发明提供了一种润滑剂,在磁记录装置中,其被作磁记录介质的润滑剂层和/或滑动头的润滑剂层时,使润滑剂层的厚度很薄。即使是高分子量,也可以获得足够薄的单分子层膜厚度。在不降低飞行稳定性的情况下,在广的温度范围内提高了可靠性。该润滑剂包括含氟聚合物,润滑剂有如下关系:Y<-1.4475X+2.815,其中Y是23℃时扩散系数的自然对数(单位:μm2/s);X是20℃时的粘度(单位:Pas),或它包含有特定结构的含氟聚合物,并且相邻的极性基团之间的分子链的数均分子量不小于500。
申请公布号 CN101121908B 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200610109737.2 申请日期 2006.08.09
申请人 富士通株式会社 发明人 千叶洋;佐佐匡昭;押久保由纪子;渡部庆二;山川荣进;东海林武
分类号 C10M107/38(2006.01)I;G11B5/725(2006.01)I;G11B5/255(2006.01)I 主分类号 C10M107/38(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 高龙鑫
主权项 一种包括含氟聚合物的润滑剂,所述润滑剂具有以下关系:Y<-1.4475X+2.815,其中Y是23℃时的扩散系数的自然对数,扩散系数的单位为μm2/s;X是20℃时的粘度,粘度的单位为Pas。
地址 日本神奈川县川崎市
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