| 主权项 |
一种式I之化合物，@sIMGTIF!d10152.TIF@eIMG!其中Xa为@sIMGCHAR!d10178.TIF@eIMG!R1为经取代或未经取代之官能基，其系选自烷基、芳基、烯基、炔基、芳烷基、环烷基、杂环、烷氧基烷基、芳烷氧基烷基、芳氧基烷基、杂芳基、环烷基烷氧基烷基、杂芳烷氧基、杂芳烷基、杂环烷基和杂环烷基；R2、R3和R4各自独立为经取代或未经取代之官能基，其系选自氢、烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基、环烷基、杂环、烷氧基烷基、芳烷氧基烷基、芳氧基烷基、杂芳基、环烷基烷氧基烷基、杂芳烷基和杂环烷基，或R3和R4一起可形成3到8员的环烷基或杂环环或一或多个R3和R4一起与一或多个Y和Z形成单-或二环环烷基或杂环环；R1’为经取代或未经取代之官能基，其系选自氢、烷基、环烷基、杂环、芳基和杂芳基；Y为连接基，其系选自伸烷基、伸烯基、伸炔基、伸芳香基和伸杂芳基、该连接基可任意地被一或多个选自烷基、芳基、环烷基、杂环、烷氧基烷基、杂芳基、芳烷基、芳烷氧基烷基、芳氧基烷基、环烷基烷氧基烷基、杂芳烷基、-OR5、-OC(O)R5、-CF3、-OCF3、-N(R5)C(O)R5’和-NR5R5’之官能基取代；R5和R5’在各情形中各自独立选自氢、烷基、环烷基、杂环和芳基，其中R5和R5’在各情形中可任意地被一或多个Rb取代；Ra和Rb在各情形中各自独立选自烷基、烯基、炔基、卤素、氰基、羰基、-CN、芳基、芳烷基、芳烯基、芳炔基、环烷基、烷氧基、烷氧基烷基、芳氧基、芳氧基烷基、杂环、杂芳基、杂芳烷基、-OR2、-NR5R5’、-CF3、-SO2R6，-OC(O)R5-SO2NR6R6’、-(CH2)mR8和R9；R6和R6’在各情形中各自独立选自氢、烷基、烯基、炔基、烷硫基烷基、烷氧基烷基、芳基、芳烷基、杂环、杂芳基、杂芳烷基、杂环烷基和环烷基，其中R6和R6’在各情形中可任意被1到3个选自卤素、-OR2、烷氧基、杂环烷基、-NR5C(O)NR5R5’、-C(O)NR5R5’、-NR5C(O)R5’、-CN、-NR5SO2R5’、-OC(O)R5、-SO2NR5R5’、-SOR7、-COOH和-C(O)OR7之取代基取代，或R6和R6’一起可环化而形成-(CH2)qX(CH2)s-；R7在各情形中独立选自C1至C6烷基、芳基和杂芳基，其中R7可任意地被-(CH2)wOH取代；R8选自烷氧基、烷氧羰基、-C(O)NR6R6’、-NR5R5’、-C(O)R6、-NR5C(O)NR5R5’和-N-杂芳基；R9选自杂环烷基、杂芳基、-CN、-(CH2)pN(R6)C(O)R6’、-(CH2)pCN、-(CH2)pN(R6)C(O)OR6’、-(CH2)pN(R6)C(O)NR6R6’、-(CH2)pN(R6)SO2R6、-(CH2)pC(O)NR6R6’、-(CH2)pC(O)OR6、-(CH2)pOC(O)OR6、-(CH2)pOC(O)R6、-(CH2)pOC(O)NR6R6’、-(CH2)pN(R6)SO2NR6R6’、-(CH2)pOR6、-(CH2)pOC(O)N(R6)(CH2)mOH-(CH2)pSOR6和-(CH2)pOCH2C(O)N(R6)(CH2)mOH；X选自-CR5R5’-，-O-，-S-，-SO-，-SO2-，-NC(O)OR7-，-NC(O)NR5-和-NR5-；Z为氮；m为1和6之间的整数；n为1到6的整数；p为0到5的整数；w为0和5之间的整数；和q和s各自独立为1和3之间的整数，其中前述“烷基”，如在本文中系单独或以另一基团之部份使用时，包括含有1至20个碳之直链和支链烃类两者；前述“芳基”，如在本文中系单独或以另一基团之部份使用时，意指在环部分含有6到10个碳之单环和双环之芳族基和可随意地包括一到三个稠合到“芳基”之额外的环；前述“烯基”，如在本文中系以本身或以另一基团之部份使用时，意指2到20个碳的直链或支链基团；前述“炔基”，如在本文中系以本身或以另一基团之部份使用时，意指2到20个碳的直链或支链基团；前述术语”环烷基”，如在本文中系单独或以另一基团之部份使用时，包括含有1到3个环之饱和或部份不饱和(包含1或2个双键)环烃基，其包括单环烷基、双环烷基和三环烷基，和包含总数为3到20个形成环之碳；前述“杂环基”意指安定的4-、5-、6-或7-员单环系统，其由碳原子和1至4个选自N、O和S之杂原子或SO或SO2基所组成，其中该氮和硫杂原子可随意地被氧化，及该氮杂原子可随意地四级化；前述“杂芳基”意指5-，6-或7-员芳香族杂环，其包含一或多个选自氮、硫、氧的杂原子及/或SO或SO2基，和可稠合到另一环烷基、环杂烷基、芳基或杂芳基环且包括可能的N-氧化物；和前述“经取代之官能基”意指该官能基经选自下列之基团取代：烷基、芳基、烯基、炔基、羟基、芳烷基、环烷基、环烷基烷基、烷氧基、芳烷氧基、烷醯基、胺基、卤基、硫基、氰基、羧基、羰基、胺基、醯胺基、卤芳基、CF3、OCF3、芳氧基、杂芳基、环烷基烷氧基烷基、环杂烷基，其条件为R5，R5’，R6或R6’连接至羰基或碸基时，不可为氢。如申请专利范围第1项之化合物，其中当Ra或Rb为R9时，R6为如申请专利范围第1项所定义之杂环或烷基，任意地被羟基或卤素取代。如申请专利范围第1项之化合物，其中当Ra或Rb为R9时，R6和R6’独立为氢、烷基或环烷基，其中烷基或环烷基为如申请专利范围第1项所定义和任意地被-C(O)OR7或-C(O)NR5R5’取代，或R6和R6’一起可环化而形成-(CH2)qX(CH2)s-。如申请专利范围第1项之化合物，其中化合物具下列有结构：@sIMGTIF!d10153.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10154.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10155.TIF@eIMG!如申请专利范围第1项之化合物，其中化合物具下列有结构：@sIMGTIF!d10156.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10157.TIF@eIMG!如申请专利范围第2项之化合物，其中R9为(CH2)pC(O)OR6，(CH2)pOC(O)R6，或(CH2)pOC(O)N(R6)(CH2)mOH。如申请专利范围第3项之化合物，其中R9为-(CH2)pN(R6)C(O)OR6’，-(CH2)pN(R6)C(O)NR6R6’，或(CH2)pOC(O)NR6R6’，其中R6和R6’独立为氢或如申请专利范围第1项所定义之烷基，其中烷基任意地-C(O)NR5R5’取代，其中R5和R5’独立为氢或如申请专利范围第1项所定义之烷基。一种具有下列结构之化合物，@sIMGTIF!d10158.TIF@eIMG!@sIMGTIF!d10159.TIF@eIMG!或其盐类。 |
