发明名称 从得自裂化炉之C4馏分制备1-辛烯的方法;PROCESS FOR PREPARING 1-OCTENE FROM A C4 FRACTION FROM A CRACKER
摘要 本发明系关于一种从得自裂化炉之C4馏分制备1-辛烯的方法,其系藉由在得自裂化炉之C4馏分中存在的1,3-丁二烯以甲醇在触媒存在下的短链聚合反应(telmerization),以该方式获得的短链聚合物(telomer)之氢化作用,氢化之短链聚合物的解离作用及分离纯化(work-up)所得之解离产物,得到纯净的1-辛烯。
申请公布号 TWI328570 申请公布日期 2010.08.11
申请号 TW093117991 申请日期 2004.06.21
申请人 赢创艾森诺有限责任公司 EVONIK OXENO GMBH 德国 发明人 裘格 克里斯曼;德克 洛特格;科尼利亚 伯格曼;柯斯汀 坎普;法兰兹 尼尔里奇;艾佛瑞德 凯兹克;优度 尼潘柏格;雷诺 莫兹可
分类号 主分类号
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种制备1-辛烯的方法,其系藉由a)包括丁二烯之流份与甲醇的催化反应,得到含有至少1-甲氧基-2,7-辛二烯之流份,b)包括1-甲氧基-2,7-辛二烯之流份的催化氢化作用,得到含有至少1-甲氧基辛烷之流份,c)至少部份的1-甲氧基辛烷的催化解离作用,得到含有至少水及1-辛烯之解离产物,其中d)将得自c)之解离产物以蒸馏作用分离成含有至少1-辛烯和水之低沸点气态馏分及含有至少1-辛烯和1-甲氧基辛烷之高沸点液态馏分,e)将低沸点馏分完全或部份冷凝,并分离成水相及包括1-辛烯之非极性相,f)将得自e)之非极性相再循环至步骤d),及g)将得自d)之高沸点馏分分离成包括1-辛烯之馏分及包括1-甲氧基辛烷之馏分。 ;2.根据申请专利范围第1项之方法,其中d1)得自c)之解离产物包含二甲醚(DME),并以蒸馏作用分离成含有至少DME之低沸点馏分及高沸点馏分,该高沸点馏份至少部份通至步骤d)。 ;3.根据申请专利范围第2项之方法,其中得自d1)之高沸点馏分包含甲醇,并以水清洗,得到包括甲醇之水性流份及非极性流份,该非极性流份通至步骤d)。 ;4.根据申请专利范围第1项之方法,其中d2)包含得自c)之解离产物的甲醇,并以水清洗,得到包括甲醇之水性流份及非极性流份,该非极性流份至少部份通至步骤d)。 ;5.根据申请专利范围第4项之方法,其中该非极性流份包含至少DME,并以蒸馏作用分离成含有至少DME之低沸点馏分及高沸点馏分,该高沸点馏份通至步骤d)。 ;6.根据申请专利范围第1至5项中任一项之方法,其中将得自g)之包括1-辛烯之馏分在步骤h)中分离成含有至少1-辛烯之馏分及含有至少C8-和C9-烯烃之馏分。 ;7.根据申请专利范围第1至5项中任一项之方法,其中将得自g)之包括1-甲氧基辛烷之馏分在步骤i)中分离成含有1-甲氧基辛烷之低沸点馏分及含有至少二辛醚之高沸点馏分。 ;8.根据申请专利范围第7项之方法,其中将低沸点馏分再循环至步骤c)。 ;9.根据申请专利范围第1至5项中任一项之方法,其中k)该步骤a)包含在催化反应之后的蒸馏步骤,其中将C4-烃以蒸馏作用分离掉,并将具有C4-烃含量小于5重量%之剩余流份通至步骤b)。 ;10.根据申请专利范围第1至5项中任一项之方法,其中1)将得自步骤b)之流份以蒸馏作用分离成含有至少甲醇、3-甲氧基辛烷和C8-烃之低沸点馏分及含有至少1-甲氧基辛烷之高沸点馏分,并将高沸点馏分通至步骤c)。 ;11.根据申请专利范围第3或4项之方法,其中将甲醇及/或水在步骤o)中与包括甲醇之水性流份分离。 ;12.根据申请专利范围第11项之方法,其中将得自e)之水相同样地喂至步骤o)。 ;13.根据申请专利范围第11项之方法,其中将得自l)之低沸点馏分同样地喂至步骤o)。 ;14.根据申请专利范围第11项之方法,其中将有机相在步骤o)中与流份分离,并将水相以蒸馏作用分离成含有甲醇之低沸点馏分及含有水之高沸点馏分。 ;15.根据申请专利范围第14项之方法,其中将该有机相以萃取作用分离。 ;16.根据申请专利范围第11项之方法,其中将全部或部份的甲醇再循环至步骤a)(短链聚合反应)。;图1示解离沸点。;图2示本发明方法的一变革版。;图3基本上相当于图2,但是补充可视需要再循环之1-辛烯及1-甲氧基辛烷的进一步纯化作用。;图4说明其中以d2)、d1)及d)次序进行制程步骤的本发明方法的一变革版。;图5示其中在水洗涤(2)前于塔(26)中移除DME(27)之另一变革方法。;图6为图5的一变革版,其补充水/甲醇处理步骤(制程步骤o)之可能的具体例)。;7示图5之一变革版,其具有制程o)之进一步可能的具体例,其中以同样方式处理得自制程步骤1)之包括甲醇流份。;图8系图7所延伸之一变革版。
地址 EVONIK OXENO GMBH 德国