发明名称 |
笔头改良结构 |
摘要 |
本创作提供一种笔头改良结构,系于一底座上各设置有向上倾斜的一第一凸部及一第二凸部,其中该第一凸部的顶端系由两个第一斜面交互形成,再由两个第一斜面之交叉处,形成一第一斜平面;使用者可利用该第一凸部及该第二凸部,同时于板面或纸面上画记出两条长形记号,便于阅读;亦可仅使用该第一凸部或该第二凸部做记。 |
申请公布号 |
TWM384106 |
申请公布日期 |
2010.07.11 |
申请号 |
TW099203888 |
申请日期 |
2010.03.05 |
申请人 |
新东文具企业有限公司 台北市大同区凉州街50号3楼 |
发明人 |
王赞经 |
分类号 |
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主分类号 |
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代理机构 |
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代理人 |
刘活木 台北市信义区信义路4段415号6楼之6 |
主权项 |
1.一种笔头改良结构,系包括:一底座,为一柱状体;一第一凸部,为一柱状体,系以向上倾斜之角度设于该底座上;一第二凸部,为一柱状体,相对于该第一凸部,以向上倾斜之角度设置于该底座之另一端;一间隔区,形成于该第一凸部与该第二凸部之间,且置于该底座之上端,系呈平坦状;及一连接杆,一端与该底座之底部结合,另一端则插设于一书写工具。 ;2.如请求项1所述之笔头改良结构,其中该第一凸部之顶端系由两个第一斜面交互形成,并于该两个第一斜面之交叉处,形成一第一斜平面。 ;3.如请求项2所述之笔头改良结构,其中该第一斜平面与该间隔区之夹角为锐角,且该夹角系面对于该第二凸部。 ;4.如请求项3所述之笔头改良结构,其中该第二凸部之顶端为一半圆形弧度之设计。 ;5.如请求项4所述之笔头改良结构,其中该第一凸部的横截面面积大于第二凸部的横截面面积。;第一图系本创作底座的立体图,;第二图系本创作底座的侧面图,;第三图系本创作底座的侧面剖视图,;第四图系本创作底座与书写工具的分解图,;第五图系本创作与书写工具的结合剖面图,;第六图系本创作第一凸部与第二凸部使用示意图,;第七图系本创作第一凸部使用示意图。 |
地址 |
台北市大同区凉州街50号3楼 |