光罩的制作方法

摘要

一种光罩的制作方法，此方法是先提供一基板，此基板上已依序形成有相移层与遮蔽层。然后，移除部分遮蔽层、相移层与基板，以形成图案化遮蔽层、图案化相移层，以及于基板中形成具有第一深度的第一开口，其中图案化遮蔽层具有第一部分与第二部分。接着，移除第二部分。之后，同时移除第二部分下方的图案化相移层以及第一开口底部之部分基板，以形成具有第二深度的第二开口。第一深度可使入射光的相位角小于180°，而第二深度可使入射光的相位角等于180°，且第二深度为第一深度与图案化相移层的厚度的总和。

主权项

一种光罩的制作方法，包括：提供一基板，该基板上已依序形成有一相移层与一遮蔽层；移除部分该遮蔽层、该相移层与该基板，以形成一图案化遮蔽层、一图案化相移层，以及于该基板中形成具有一第一深度的一第一开口，其中该图案化遮蔽层具有一第一部分与一第二部分；移除该第二部分；以及同时移除该第二部分下方的该图案化相移层以及该第一开口底部之部分该基板，以形成具有一第二深度的一第二开口，其中该图案化相移层的移除速率与该基板的移除速率实质上相同，其中，该第一深度可使一入射光的相位角小于180°，而该第二深度可使该入射光的相位角等于180°，且其中该第二深度为该第一深度与该图案化相移层的厚度的总和。