光学测定装置、程序及测量方法

摘要

一种光学测定装置，能够遍及试样的测定对象区域而容易地计算各层的膜厚或者光学常数。第一测定机构在将测量位置移动到所存储的一个第一基准位置之后，对光的偏光状态进行测定。辅助测定机构在将测量位置移动到根据与所存储的一个第一基准位置相对的移动量来确定的辅助基准位置之后，对光的偏光状态进行测定。第一计算机构根据与存储于存储部中的第一基准位置相对应的第一模型及由第一测定机构所测定的光的偏光状态而进行拟合，以计算出膜厚或者光学常数。同样地，辅助计算机构根据与存储于存储部中的辅助基准位置相对应的辅助模型及由辅助测定机构所测定的光的偏光状态而进行拟合，以计算出膜厚或者光学常数。

主权项

一种光学测定装置，对试样的膜厚或者光学常数进行测量，所述光学测定装置的特征在于包括：存储机构，将应测量的多个第一基准位置及相对于该第一基准位置的至少一个移动量存储于存储部；第一测定机构，使测量位置移动到存储在所述存储部中的一个第一基准位置，照射光并对所反射的光的状态变化进行测定；辅助测定机构，使测量位置移动到根据与存储在所述存储部中的一个第一基准位置相对的移动量来确定的辅助基准位置，照射光并对所反射的光的状态变化进行测定；第一计算机构，根据与存储在所述存储部中的第一基准位置相对应的第一模型及由所述第一测定机构所测定的光的状态变化进行分析，以计算出膜厚或者光学常数；以及辅助计算机构，根据与存储在所述存储部中的辅助基准位置相对应的辅助模型及由所述辅助测定机构所测定的光的状态变化进行分析，以计算出膜厚或者光学常数。