光学位置评估装置及方法

摘要

本发明系关于一种微影装置，其包含一支撑一基板之基板台，该基板在其一表面上具有多个对准标记。该装置进一步包含一框架，其可相对于该基板而移动以提供用于操作之一扫描或步进模式。投影系统之一阵列横越该框架而安置，以用于将个别图案化光束投影至该基板之一目标部分上。复数个对准标记侦测器附接至该框架，且使用个别线性驱动机构可相对于该框架而移动。一位置感测器与每一对准标记侦测器关联以用于判定该侦测器相对于该框架之位置。一控制系统在一微影程序期间负责该等侦测器于该基板上之对准标记图案上方的初始定位，并负责该框架及该基板之动态对准。

主权项

一种微影装置，其包含：一图案产生设备；一基板台，其支撑一基板，该基板具有提供于其一表面上之多个对准标记；一框架，其可相对于该基板而移动；一或多个投影系统，其耦接至该框架，其中该或该等投影系统能将一图案化光束由该图案产生设备投影至该基板之一目标部分上；一或多个对准标记侦测器，其耦接至该框架且可相对于该框架而移动；及各与该或该等对准标记侦测器中之每一者关联的一位置感测器，其中该或该等位置感测器判定该或该等对准标记侦测器相对于该框架及该或该等投影系统中之至少一者的位置。