| 发明名称 | 制备显示装置的方法 | ||
| 摘要 | 在本发明提供了一种制备显示装置的方法。该方法包括提供具有像素区域和在像素区域外围的电路区域的基板。分别在像素区域和电路区域形成第一半导体层和第二半导体层。选择性地对第一半导体层进行表面处理以增加第一半导体层的表面晶格缺陷密度。 | ||
| 申请公布号 | CN1716532B | 申请公布日期 | 2010.05.26 |
| 申请号 | CN200510082115.0 | 申请日期 | 2005.06.29 |
| 申请人 | 三星移动显示器株式会社 | 发明人 | 黄义勋;金得钟 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;G09G3/00(2006.01)I;G09F9/30(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 一种制备显示装置的方法，包括：提供具有像素区域和在所述像素区域外围的电路区域的基板；在所述像素区域上形成第一半导体层，在所述电路区域上形成第二半导体层，所述第一半导体层和第二半导体层为多晶硅层；以及在660Pa的气压、300W的射频功率及5000sccm的He和100sccm的O2的条件下，选择性地对所述第一半导体层进行表面处理120秒以增加所述第一半导体层的表面晶格缺陷密度从而增大像素TFT的S因子。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||